• ВХОД

    •  

    Полное описание

    International workshop on the measurement and characterization of ultra-shallow doping profiles in semiconductors (3 ; 1995 ; S.l.). Papers from the third International workshop on the measurement and characterization of ultra-shallow doping profiles in semiconductors and papers from the third International workshop on advanced plasma tools... / International workshop on the measurement and characterization of ultra-shallow doping profiles in semiconductors (3 ; 1995 ; S.l.) ; Ed. G. E. McGuire. - New York, NY : Amer.vacuum soc., 1996. - A24,583 p. p. - (Journal of vacuum science & technology B. ; vol.14,N 1,1996). - Текст : непосредственный.
    Библиогр.в конце статей

    ГРНТИ УДК
    47.09.29621.315.592.002:669(063)

    Рубрики:
    Полупроводники -- Легирование -- Съезды и конференции

    Кл.слова (ненормированные): ПОЛУПРОВОДНИК
    Доп. точки доступа:
    McGuire, G.E.\ed.\

    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): W8873/Vol.14,N 1,1996)

    Шифр в сводном ЭК: 9dd6c6c16c27f2d15b6d96f569392360



    Заказ фрагмента документа ₽