Полное описание

Dry processing for submicrometer lithography : proc,of the meet., 12-13 Oct.1989, Santa Clara(Ca) / Alliot P.; ed. J. Bondur, ed. A. R. Reinberg. - Washington(DC) : [s. n.], 1989. - VII, 307 p. 307 p. : ill. - (Proceedings / Soc.of photo-optical instrumentation engineers ; n1185). - ISBN 0-8194-0221-4. - Текст : непосредственный.
Библиогр.в конце ст.

ГРНТИ	УДК
47.13.11	621.3.049.77-047.84:776(062)

Рубрики:
Электронолитография -- Съезды и конференции

Кл.слова (ненормированные): ОПТОЭЛЕКТРОНИКА -- ЭЛЕКТРОНОЛИТОГРАФИЯ
Доп. точки доступа:
Alliot P.
Bondur, J.\ed.\
Reinberg, A.R.\ed.\

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): R/7309/1185)

Шифр в сводном ЭК: fcfc2b6a2d33f08f73ee1d1f44ad8aac

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽