Полное описание

Particle formation during low-pressure chemical vapor deposition from silane and oxygen: measurement, modeling, and film properties / T.Kim,S.-M.Suh,S.L.Girshick и др.;T.Kim, S.-M.Suh, S.L.Girshick et al. - [S. l. : s. n.], 2002. - 413-423 p. p. - (UMSI research report / Univ. of Minnesota ; 2002/88). - Текст : непосредственный.
Библиогр.: с.422-423.

ГРНТИ	УДК
31.17.15	546.28-31.03:539.216.2

Рубрики:
Кремний, диоксид, пленки

Кл.слова (ненормированные): КРЕМНИЙ
Доп. точки доступа:
Kim, T.
Suh, S.-M.
Girshick, S.L.
University of Minnesota (Minneapolis, Mn). Supercomputer institute

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): R/17401/2002/88)

Шифр в сводном ЭК: becaadfdfc7613ccd2fd4cafc0a55e8a

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽