Полное описание

Альфорд, Т. Л. Фундаментальные основы анализа нанопленок / Т. Л. Альфорд, Л. К. Фельдман, Д. В. Майер; пер. с англ. А. Н. Образцова, М. А. Долганова; науч. ред. А. Н. Образцов. - М. : Науч. Мир, 2012. - 390 с. : ил. - (Фундаментальные основы нанотехнологий: лучшие зарубежные учебники). - Библиогр. в конце глав. - Пер. изд. : Fundamentals of nanoscale film analysis / T. L. Alford, L. C. Feldman, J. W. Mayer. - S.l., 2007. - Тираж не указ. - ISBN 978-5-91522-225-9. - Текст : непосредственный.
В надзаг.: МГУ им. М. В. Ломоносова, Науч.-образоват. центр по нанотехнологиям.

ГРНТИ	УДК
81.09.30	620.22-022.532

Рубрики:
Наноструктурные материалы -- Физико-химические свойства

Аннотация: Рассмотрены проблемы фундаментальной физики, лежащих в основе методов, используемых для изучения поверхностей и приповерхностных слоев наноматериалов. Появление и развитие таких аналитических методик, основанных на явлениях взаимодействия частиц и излучения с веществом, обусловлено, ростом технологических потребностей. Ионная имплантация, электронные пучки и лазеры используются для модификации состава и структуры материалов. Осаждение потоков частиц, получаемых с помощью различных источников, позволяет получать пленочные материалы. Так, эпитаксиальные слои могут быть получены с использованием молекулярных пучков, а также с помощью физического и химического газофазного осаждения. Методики, основанные на изучении взаимодействия с частицами, позволяют, обеспечить контролируемые условия окислительных и каталитических реакций.
Доп. точки доступа:
Фельдман, Л.К.
Майер, Д.В.
Alford, T. L.
Feldman, L. C.
Mayer, J. W.

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): Ж2-12/53831)

Шифр в сводном ЭК: b6a7b62dbe7fac7ab0ad77c988a5be18

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽