Полное описание

Nagel, N. Losungswachstum von Siliziumschichten auf Siliziumdioxid und Charakterisierung der Schichten : Diss. / N.Nagel. - Stuttgart, 1993. - 140 S. : Ill. - Текст : непосредственный.
Библиогр.:с.133-138

ГРНТИ	УДК
47.33	621.382.323(043)

Рубрики:
Моп-транзисторы

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): G2/18401)

Шифр в сводном ЭК: 67ce473b3cbaa8fd439e4ae8ade4d690

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽