Полное описание

Ohashi, Y. Effect of O+ ion beam on the electrical conduction of carbon films by IBSD technique / Y.Ohashi,T.Ise. - Yokohama : [s. n.], 1994. - 9 p. : ill. - (Keio science and technology reports / Keio univ.Fac.of science and technology, ISSN 0286-4215 ; vol.47,N 1). - Текст : непосредственный.
Библиогр.:с.9

ГРНТИ	УДК
61.31.51	661.666-416.01:537

Рубрики:
Углеродистые пленки -- Электрические свойства

Доп. точки доступа:
Ise, T.
Keio university(Yokohama). Faculty of science and technology

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): R/7875/47,N 1)

Шифр в сводном ЭК: 3bd01d176ff0e6960531a9075d6dad7e

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽