Полное описание
> Пащенко, А. С. Ионно-плазменные технологии в микро- и наноэлектронике / А. С. Пащенко, П. С. Пляка, В. О. Пономаренко. - Ростов н/Д : Изд-во ЮНЦ РАН, 2013. - 175 с. : ил. - Парал. тит.л. англ. - Библиогр.: с. 168-175 (85 назв.). - 200 экз. - ISBN 978-5-4358-0057-9. - Текст : непосредственный.
В надзаг.: Рос. акад. наук, Юж. науч. центр
ГРНТИ | УДК | |
47.13.33 | 621.3.049.76-047.84 | |
47.13.07 | 621.384-022.532-047.84 |
Рубрики:
Микроэлектронные приборы -- Производство
Наноэлектронные устройства -- Производство
Аннотация: Физические основы ионно-плазменных технологий. Процессы модификации подложки и кристаллизации пленок. Результаты исследования свойств плазмы и выращенных структур.
Доп. точки доступа:
Пляка, П.С.
Пономаренко, В.О.
Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): Д10-13/5984)>
Шифр в сводном ЭК: 184a5513997b6a4fe6435b59009619ff
Заказ фрагмента документа ₽