Полное описание
Ion beam processing of advanced electronic materials : сборник научных трудов / Ed. N. W. Cheung. - Pittsburgh, Pa : Materials research soc., 1989. - XI, 401 p. 401 p. : ill. - (Symposia proceeding / Materials research soc., ISSN 0272-9172 ; n147). - ISBN 1-55899-020-8. - Текст : непосредственный. Перевод заглавия: Дефекты в материалах электронной чистоты:Труды симп. Бостон, 1987
ГРНТИ УДК 47.13.33 621.315.592.002:669(063)
Рубрики: Ионное внедрение -- Съезды и конференции
Кл.слова (ненормированные): ИОННОЕ ВНЕДРЕНИЕ -- ИОННОЕ ВНЕДРЕНИЕ
Доп. точки доступа: Cheung, N.W.\ed.\
Держатели документа: Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): R/14156/147)
Шифр в сводном ЭК: 3d95f61d74298841bb96b2cb7d4ed198
Advanced surface processes for optoelectronics : сборник научных трудов / Ed. S. L. Bernasek, 1988. - IX,318 p. p. - Текст : непосредственный. Heteroepitaxy on silicon : сборник научных трудов / Ed. H. K. Choi, 1988. - XV, 541 p. 541 p. - Текст : непосредственный. Chemistry and defects in semiconductor heterostructures : сборник научных трудов / Ed. M. Kawabe, 1989. - XI, 464 p. 464 p. - Текст : непосредственный. Optical materials: Processing and science : сборник научных трудов / Ed.: D. B. Poker, C. Ortiz, 1989. - XIII, 298 p. 298 p. - Текст : непосредственный. Polysilicon films and interfaces : сборник научных трудов / Ed. A. Wong, 1988. - 369 p. - Текст : непосредственный. Ion beam processing of advanced electronic materials : сборник научных трудов / Ed. N. W. Cheung, 1989. - XI, 401 p. 401 p. - Текст : непосредственный. Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Microwave processing of materials : Symp.on microwave processing of materialsheld Apr. 5-8, Reno(Nv) / Ed. W. H. Sutton, 1988. - XI, 399 p. 399 p. - Текст : непосредственный. Better ceramics through chemistry III : Symp.on 3.better ceramics through chemistry, Apr.5-8, 1988, Reno(Nv) / Ed. C. J. Brinker, 1988. - XV, 847 p. 847 p. - Текст : непосредственный. Microstructural development during hydration of cement : Symp.held Dec.2-4, 1986, Boston(Ma) / ed. L. J. Struble, 1987. - XV, 329 p. 329 p. - Текст : непосредственный. Processing science of advanced ceramics : Symp.on processing science of advanced ceramics, Apr.27-28,1989, San Diego(Ca) / Ed. I. A. Aksay, 1989. - XI, 387 p. 387 p. - Текст : непосредственный. Interfaces between polymers, metals, and ceramics : Symp.on interfaces between polymers, metals, and ceramics, Apr. 25-27, 1989, San Diego(Ca) / Ed. B. M. DeKoven, 1989. - XIII, 426 p. 426 p. - Текст : непосредственный. Materials stability and environmental degradation : Symp.on materials stability and environmental degradation, Apr.5-7, 1988, Reno(Nv) / ed. A. Barkatt, 1988. - XI, 421 p. 421 p. - Текст : непосредственный. Microstructure and properties of catalysts : Symp.on microstructure and properties of catalysts, Nov.30-Dec.3, 1987, Boston(Ma) / ed. M. M.J. Treacy, 1988. - XI, 476 p. 476 p. - Текст : непосредственный. Solid state ionics : Symp., Nov.28 - Dec.2, 1988, Boston(Ma)Mfiche / сост.ed. G. Nazri, 1989. - XII,620 p. p. - Текст : непосредственный. Показать все результаты Frey H. Ionenstrahlgestutzte Halbleitertechnologie / H. Frey, 1992. - 131 S. - Текст : непосредственный. Зятьков И.И. Моделирование технологических процессов формирования полупроводниковых структур / И. И. Зятьков, Е. П. Юрченко, 1994. - 6 c. - Текст : непосредственный. Кривошеева А.Н. Процессы жидкостного химического травления в технологии микросистем. Жидкостное химическое травление полупроводниковых материалов : выставочные материалы / А. Н. Кривошеева, В. В. Лучинин, 2012. - 118 с. - Текст : непосредственный. Трунин Д.А. Физико-технические основы систем переноса изображения на эффекте обращения волнового фронта для микроэлектронной технологии : специальность 05.27.01 "Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и нано-электроника, приборы на квантовых эффектах" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд. физ.-мат. наук / Д. А. Трунин, 2003. - 22 с. - Текст : непосредственный. Смирнова Н.А. Разработка технологии изготовления подложек CdZnTe для выращивания гетероструктур CdHgTe/CdZnTe методом жидкофазной эпитаксии : специальность 05.17.01 "Технология неорганических веществ" : диссертация на соискание ученой степени канд. техн. наук / Н. А. Смирнова, 2007. - 24 с. - Текст : непосредственный. Wissenschaftliche Berichte / FZKA. 7215 : Hochauflosende Rontgenlithografie zur Herstellung polymerer Submikrometerstrukturen mit grossem Aspektverhaltnis : Diss. / T.Mappes, S.Achenbach, J.Mohr, 2006. - IV, 71 S. - Текст : непосредственный. Молодечкина Т.В. Формирование легированных оксидов титана термолизом алкоксисоединений для компонентов электронной техники / Т. В. Молодечкина, 2004. - 21 с. - Текст : непосредственный. Рахматуллаев Х.Б. Процессы двухэлектронной локализации и делокализации на примесных атомах олова в узкозонных полупроводниках : специальность 01.04.10 "Физика полупроводников" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.физ.-мат.наук / Х. Б. Рахматуллаев, 1991. - 15 с. - Текст : непосредственный. Кузнецов Г.Д. Ионно-плазменная обработка материалов : учебное пособие / Г. Д. Кузнецов, А. Р. Кушхов, 2008. - 179 с. - Текст : непосредственный. Смирнов В.А. Разработка и исследование технологических основ процесса фотонностимулированного локального анодного окисления наноструктур на основе Si/SiO2/Ii : специальность 05.27.01 "Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и нано-электроника, приборы на квантовых эффектах" : диссертация на соискание ученой степени канд. техн. наук / В. А. Смирнов, 2008. - 23 с. - Текст : непосредственный. Пархутик В.П. Плазменное анодирование : монография / В. П. Пархутик, В. А. Лабунов, 1990. - 280 c. - Текст : непосредственный. Бордусов С.В. Процессы и устройства СВЧ плазмохимиче ского удаления материалов при формировании изделий электронной техники : специальность 05.27.06 "Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники" : автореферат диссертации на соискание ученой степени д-ра техн. наук / С. В. Бордусов, 2003. - 41 с. - Текст : непосредственный. Шипатов Э.Т. Ионно-лучевая модификация свойств металлов, сверхпроводников и пленок ферритов-гранатов : учебное пособие / Э. Т. Шипатов, 2007. - 111 с. - Текст : непосредственный. Ito H. Microlithography в· molecular imprinting / H. Ito, 2005 r=on-line. - Текст : электронный. Авдиенко А.А. Физико-технические принципы построения, разработка и применение высокоэнергетичных ионных имплантеров : специальность 05.27.06 "Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники" : автореферат диссертации на соискание ученой степени д-ра техн. наук / А. А. Авдиенко, 2004. - 30 c. - Текст : непосредственный. Григорьев Д.В. Радиационное дефектообразование при ионной имплантации в варизонных полупроводниковых структ урах Cd Hg Te, выращенных мет одом молекулярно-лучевой эпитаксии / Д. В. Григорьев, 2005. - 24 с. - Текст : непосредственный. Гниденко А.А. Исследование влияния давления на поведение гелия и водорода в кристаллическом кремнии / А. А. Гниденко, 2005. - 22 с. - Текст : непосредственный. Ion beam processing of advanced electronic materials : сборник научных трудов / Ed. N. W. Cheung, 1989. - XI, 401 p. 401 p. - Текст : непосредственный. Хмельницкий Р.А. Радиационное повреждение и графитизация алмаза при ионной имплантации / Р. А. Хмельницкий, 2008. - 19 с. - Текст : непосредственный. Дунаев А.В. Кинетика и механизмы взаимодействия неравновесной низкотемпературной плазмы хлора и хлороводорода с алюминием и арсенидом галлия / А. В. Дунаев, 2011. - 16 с. - Текст : непосредственный. Показать все результаты Ion beam processing of advanced electronic materials : сборник научных трудов / Ed. N. W. Cheung, 1989. - XI, 401 p. 401 p. - Текст : непосредственный. Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Papers from the fifth International workshop on the measurement, characterization, and modeling of ultra-shallow doping profiles in semiconductors / International workshop on the measurement, characterization, and modeling of ultra-shallow doping profiles in semiconductors (5 ; [1999] ; S.l.) , 2000. - A15,606 p. p. - Текст : непосредственный. Papers from the third International workshop on the measurement and characterization of ultra-shallow doping profiles in semiconductors and papers from the third International workshop on advanced plasma tools.. / International workshop on the measurement and characterization of ultra-shallow doping profiles in semiconductors (3 ; 1995 ; S.l.) , 1996. - A24,583 p. p. - Текст : непосредственный. III Всесоюзная конференция "Ионно-лучевая модификация полупроводников и других материалов микроэлектроники" : Программа и тезисы докл.,Новосибирск,4-6 июня 1991 г. / "Ионно-лучевая модификация полупроводников и других материалов микроэлектроники",всесоюзная конф. (3 ; 1991 ; Новосибирск) , 1991. - 149 с. - Текст : непосредственный. Заказать
Заказ фрагмента документа ₽
Приложение
для Android
