• ВХОД
  •  

    Полное описание

    Ultra clean processing of semiconductor surfaces X : the 10th intern. symp. on ultra clean processing of semiconductor surfaces (UCPSS 2010), was held in Oostende, Belgium, on Sept. 20-22, 2010 / International symposium on ultra clean processing of semiconductor surfaces (10; 2010; Oostende) ; ed. P. Mertens [et al.]. - Durnten-Zurich : Trans tech publ., 2012. - on-line. - (Solid state phenomena, ISSN 1662-9779 ; vol. 187). - URL: https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/SSP.187. - Загл. с экрана. - ISBN 978-3-03813-700-9. - Текст : электронный.

    ГРНТИ УДК
    47.13.11621.315.592-047.84(063)

    Кл.слова (ненормированные): КОНФЕРЕНЦИИ -- ОБРАБОТКА -- ПОЛУПРОВОДНИКИ
    Доп. точки доступа:
    Mertens, P.\ed.\
    International symposium on ultra clean processing of semiconductor surfaces (10 ; 2010 ; Oostende)

    https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/SSP.187


    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): ?-852673508)

    Шифр в сводном ЭК: fee204976c4e7dcc27fc319bd1bea970



    Заказ фрагмента документа ₽

    Просмотр издания