Полное описание

Resists in microlithography and printing / B. Bednarr, J. Kralicek, J. Zachoval [et al.];Transl. from czech. by M. Smetanova. - 2nd rev.engl.ed. - Praha : Acad. press ; Amsterdam [etc.] : Elsevier , 1993. - 376 p. : ill. - ISBN 0-444-98846-7. - Текст : непосредственный.
Библиогр.в конце глав.

ГРНТИ	УДК
47.13.17	621.3.049.77-047.84:776

Рубрики:
Фоторезисты

Доп. точки доступа:
Bednarr, B.
Kralicek, J.
Zachoval, J.

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): J2/25160)

Шифр в сводном ЭК: 1a681c0673f6aae29280fad264312120

Заказать
Заказ фрагмента документа ₽