Полное описание
> Технология и оборудование полиграфического производства. Фототехнология в полиграфии и электронике : межвед. сб. науч. тр. / РСФСР. Гос. ком. по делам науки и высшей школы ; Сост.и отв.ред.Б.Т.Ложкин. - М. : Изд-во МПИ, 1991. - 113 с. - 400 экз. - ISBN 5-7043-0532-6. - Текст : непосредственный. В надзаг.:РСФСР.Гос.ком.по делам науки и высшей школы.Библиогр.в конце отд.ст.
ГРНТИ УДК 47.13.11 621.3.049.77-047.84:776 774
Рубрики: Фотолитография
Фоторепродукционные процессы
Доп. точки доступа: Ложкин, Б.Т.
РСФСР. Гос. ком. по делам науки и высшей школы
Держатели документа: Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): Д7-91/97267)>
Шифр в сводном ЭК: c82159aeb6a5243ed19d0457553a8394
Виноградов М.И. Вакуумные процессы оборудование ионно-и электронно- лучевой технологии / М. И. Виноградов, Ю. П. Маишев, 1989. - 53 с. - Текст : непосредственный. Полтавцев Ю.Г. Технология обработки поверхностей в микроэлектронике / Ю. Г. Полтавцев, А. С. Князев, 1990. - 206 c. - Текст : непосредственный. Моносилан в технологии полупроводниковых материалов / Е. П. Белов, Е. Н. Лебедев, Ю. П. Григораш [и др.], 1989. - 66 с. - Текст : непосредственный. Голод С.В. Методы формирования трехмерных микро- и наноструктур на основе напряженных SiGe/Si пленок : специальность 01.04.10 "Физика полупроводников" : диссертация на соискание ученой степени канд. физ.-мат. наук / С. В. Голод, 2006. - 23 с. - Текст : непосредственный. Пичугин К.Н. Эффекты квантовой интерференции в электронном транспорте через двумерные наноструктуры : специальность 01.04.07 "Физика конденсированного состояния" : диссертация на соискание ученой степени канд. физ.-мат. наук / К. Н. Пичугин, 2007. - 18 с. - Текст : непосредственный. Игонина Т.И. Технологическое обеспечение качества поверхности полупроводниковых пластин информационно-измерительных устройств / Т. И. Игонина, 2007. - 22 с. - Текст : непосредственный. Неустроев Е.П. Формирование электрически активных центров в кремнии, имплантированном ионами газов средних (-10 кэВ/а.е.м.) и высоких (1МэВ/а.е.м.) энергий, при отжигах до 1050 С : специальность 01.04.10 "Физика полупроводников" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд. физ.-мат. наук / Е. П. Неустроев, 2000. - 17 с. - Текст : непосредственный. Новиков П.Л. Моделирование процессов образования пористого кремния и гомоэпитаксии на его поверхности : специальность 01.04.10 "Физика полупроводников" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд. физ.-мат. наук / П. Л. Новиков, 2000. - 19 с. - Текст : непосредственный. Моряков О.С. Сборка / О. С. Моряков, 1990. - 126 c. - Текст : непосредственный. Мартынов В.В. Литографические процессы / В. В. Мартынов, Т. Е. Базаров, 1990. - 128 c. - Текст : непосредственный. Nastasi M. Ion implantation and synthesis of materials / M. Nastasi, J. W. Mayer, 2006 r=on-line Пак М.М. Моделирование элементов нейронных сетей на основе твердотельных нанообъектов : специальность 05.13.12 "Системы автоматизации проектирования (по отраслям)" : диссертация на соискание ученой степени канд. техн. наук / М. М. Пак, 2006. - 22 с. - Текст : непосредственный. Смирнов А.Д. Технология приборов на арсениде галия / А. Д. Смирнов, 1994. - 48 c. - Текст : непосредственный. Анищенко Л.М. Автоматизированное проектирование и моделирование технологических процессов микроэлектроники / Л. М. Анищенко, С. Ю. Лавренюк, В. В. Петрухин, 1995. - 177 c. - Текст : непосредственный. Бондаренко Л.В. Структура и поверхностная проводимость металлических и металл-фуллереновых систем на реконструированных поверхностях Si(111) / Л. В. Бондаренко, 2012. - 22 с. - Текст : непосредственный. Жук С.В. Исследование процессов лазерного отжига полупроводников методами имитационного моделирования : специальность 05.27.05 "", 05.13.16 "" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд. техн. наук / С. В. Жук, 1990. - 18 с. - Текст : непосредственный. Экспериментально-теоретическое исследование процесса формирования системы кислородосодержащий преципитат-дислокационные петли / Р. В. Гольдштейн, К. Б. Устинов, П. С. Шушпанников [и др.], 2007. - 29 с. - Текст : непосредственный. Гиндин П.Д. Разработка новых технологий и оборудования на основе метода лазерного управляемого термораскалывания для обработки деталей приборостроения, микро- и оптоэлектроники : специальность 05.11.14 "Технология приборостроения" : диссертация на соискание ученой степени д-ра техн. наук / П. Д. Гиндин, 2010. - 43 с. - Текст : непосредственный. Herstellung beweglicher LIGA-Mikrostrukturen durch positionierte Abformung / A. Both, W. Bacher, M. Heckele, R. Ruprecht, 1995. - III,103 S. S. - Текст : непосредственный. Бабанов Ю.Е. Механизмы поверхностных процессов при травлении кремния / Ю. Е. Бабанов, В. Б. Световой, 1990. - 47 с. - Текст : непосредственный. Показать все результаты Моро У. Микролитография. Принципы, методы, материалы : В 2-х ч. Ч. 1Ч.1 / У. Моро, 1990. - 606 с. - Текст : непосредственный. Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Шульц А.К. Основы фотомеханики в печатном деле / инж. А. К. Шульц, преподаватель государственного техникума печати, 1930. - 158 с. - Текст : непосредственный. Боровцов П.В. Литографические процессы в микроэлектронике : Учеб.пособие / П.В.Боровцов, 1995. - 58 c. - Текст : непосредственный. Баканов Г.Ф. Фотолитография : Учеб. пособие для студентов вузов, обучающихся по направлению 654300 "Проектирование и технология электронных средств" / Г.Ф.Баканов,Г.В.Петрова, 2002. - 35 с. - Текст : непосредственный. Rogers J. A. Unconventional nanopatterning techniques and applications / J. A. Rogers, H. H. Lee, 2008 r=on-line. - Текст : электронный. Ануфриенко В.В. Процессы и оборудование фотолитографической обработки : Учеб.пособие по курсу "Технол.процессы и оборудование микроэлектроники" / В.В.Ануфриенко, 1998. - 66 с. - Текст : непосредственный. Валиев К.А. Физика субмикронной литографии / К.А.Валиев, 1990. - 528 c. - Текст : непосредственный. Nd laser fifth harmonic interaction with polymer films / A.A.Babin,N.M.Bityurin,A.V.Polyakov и др., 1992. - 18 p. - Текст : непосредственный. Лыньков Л.М. Субмикронная литография / Л.М.Лыньков,С.Л.Прищепа, 1999. - 205 с. - Текст : непосредственный. Chung S.-J. Strukturprofilsimulation dicker Schichten in der optischen Lithographie mit DNQ-Novolak-basierenden Photoresists / S.-J.Chung,H.Hein,J.Schulz, 1998. - 94 S. - Текст : непосредственный. Ивин В.В. Использование математического моделирования в исследовании, разработке и оптимизации фотолитографических процессов / В.В.Ивин,Т.М.Махвиладзе, 2000. - 30 c. - Текст : непосредственный. Моро, У. Микролитография. Принципы, методы, материалы : В 2-х ч. Ч. 2, 1990. - С.613-1239. - Текст : непосредственный. Технология и оборудование полиграфического производства. Фототехнология в полиграфии и электронике : Межвед. сб. науч. тр. / РСФСР. Гос. ком. по делам науки и высшей школы, 1991. - 113 с. - Текст : непосредственный. Fast raster scanning system for active dose fields formation / A.D.Chernyakin,V.N.Eschenko,V.N.Marusov,G.I.Silvestrov, 1994. - 21 p. - Текст : непосредственный. Показать все результаты Заказать
Заказ фрагмента документа ₽