• ВХОД
  •  

    Полное описание

    Мустафаев, А. Г. Научные основы и практические аспекты разработки технологии создания тонких полупроводниковых слоев кремния на изолирующих подложках применением процессов ионной обработки : автореф. дис. ... д-ра техн. наук: 05.27.06 / А. Г. Мустафаев. - Новочеркасск, 2011. - 32 с. : ил. - Библиогр.: с. 27-32 (67 назв.). - Текст : непосредственный.

    ГРНТИ УДК
    47.13.11621.315.592.9-047.56(043)

    Кл.слова (ненормированные): ИОННАЯ ИМПЛАНТАЦИЯ -- КРЕМНИЕВЫЕ ПЛЕНКИ НА САПФИРЕ -- КРЕМНИЕВЫЕ СТРУКТУРЫ -- ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ РЕЖИМЫ -- УЛУЧШЕННАЯ СТРУКТУРА -- ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ
    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): Ар11-16726)

    Шифр в сводном ЭК: 556ec59e227b72afeb8edffef89e4235



    Заказ фрагмента документа ₽