Полное описание
> Состояние разработок и перспективы использования ЭЦР источников плазмы для технологических процессов формирования пленочных структур в микроэлектронике и оптике / А.С.Вус,А.М.Дудкина,В.А.Дудкин и др. - Харьков : [б. и.], 1990. - 55 с. : ил. - (Препринт ; 90-22). - 200 экз. - Текст : непосредственный.
Библиогр.: с. 50-55 (86 назв.)
ГРНТИ | УДК | |
47.33.37 | 621.3.049.76-416(04) | |
81.37.15 | 681.7.064.45(04) |
Рубрики:
Пленочная микроэлектроника
Оптические покрытия
Кл.слова (ненормированные): ОПТИЧЕСКОЕ ПОКРЫТИЕ -- ПЛЕНОЧНАЯ МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
Доп. точки доступа:
Вус, А.С.
Дудкина, А.М.
Дудкин, В.А.
Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): М/16737/90-22)>
Шифр в сводном ЭК: bc03dfabd180924be9491ef6ffd85f4d
Заказ фрагмента документа ₽