• ВХОД
  •  

    Полное описание

    Состояние разработок и перспективы использования ЭЦР источников плазмы для технологических процессов формирования пленочных структур в микроэлектронике и оптике / А.С.Вус,А.М.Дудкина,В.А.Дудкин и др. - Харьков : [б. и.], 1990. - 55 с. : ил. - (Препринт ; 90-22). - 200 экз. - Текст : непосредственный.
    Библиогр.: с. 50-55 (86 назв.)

    ГРНТИ УДК
    47.33.37621.3.049.76-416(04)
    81.37.15681.7.064.45(04)

    Рубрики:
    Пленочная микроэлектроника
    Оптические покрытия

    Кл.слова (ненормированные): ОПТИЧЕСКОЕ ПОКРЫТИЕ -- ПЛЕНОЧНАЯ МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
    Доп. точки доступа:
    Вус, А.С.
    Дудкина, А.М.
    Дудкин, В.А.

    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): М/16737/90-22)

    Шифр в сводном ЭК: bc03dfabd180924be9491ef6ffd85f4d



    Заказ фрагмента документа ₽