Полное описание

Hata, N. Gas phase process diagnostic techniques on plasma chemical vapor deposition / N.Hata. - Tsukuba : [s. n.], 1989. - 86 p. : ill. - (Researches / Electrotechn.lab. ; n901). - Текст : непосредственный.
Текст яп. Рез.англ. Библиогр.:с.83-86

ГРНТИ	УДК
29.19.16	539.23

Рубрики:
Пленки -- Производство

Кл.слова (ненормированные): ПЛЕНКА
Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): R/1872/901)

Шифр в сводном ЭК: f8be945d96e2a6f27ce76e10c4897462

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽