• ВХОД
  •  

    Полное описание

    Eberle, J. Optimierung der Strahlungscharakteristik eines Pinchplasmas fur die Rontgenlithographie : Diss. / J.Eberle. - Aachen, 1990. - 117 S. : Ill. - Текст : непосредственный.
    Библиогр.:с.115-117
    Перевод заглавия: Оптимизация характеристики излучения пинч-плазмы для рентгеновской литографии:Дис

    ГРНТИ УДК
    47.13.11621.3.049.77-047.84:776(043)

    Рубрики:
    Рентгенолитография -- Оптимизация

    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): G2/16430)

    Шифр в сводном ЭК: e9d43bd481c17f34e2aae564ceee6886



    Заказ фрагмента документа ₽