Полное описание
> Nojiri, K. Dry Etching Technology for Semiconductors / K. Nojiri. - Cham : Springer, 2015. - on-line. - URL: https://link.springer.com/book/10.1007/978-3-319-10295-5. - Загл. с экрана. - ISBN 978-3-319-10295-5. - Текст : электронный.
ГРНТИ | УДК | |
47.13.33 | 621.3.049.77-047.84:621.794 | |
621.315.592:621.794 |
Кл.слова (ненормированные): ИНТЕГРАЛЬНЫЕ СХЕМЫ -- ИОННОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- ПЛАЗМЕННОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- ПОЛУПРОВОДНИКИ -- ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ИНТЕГРАЛЬНЫЕ СХЕМЫ -- СУХОЕ ТРАВЛЕНИЕ
https://link.springer.com/book/10.1007/978-3-319-10295-5
Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): ???-713518)>
Шифр в сводном ЭК: d8811a1019b489c7c0b908adec33bcd1
Заказ фрагмента документа ₽
Просмотр издания