Полное описание

A statistical approach to plasma profile analysis / O.J.W.F.Kardaun,K.S.Riedel,P.J.McCarthy,K.Lackner. - Garching bei M@:unchen : [s. n.], 1990. - 40 p. : ill. - (Berichte / Inst.fur Plasmaphysik ; IPP 5/35). - Текст : непосредственный.
Библиогр.:c.38-40

ГРНТИ	УДК
29.27.49	621.039.66

Рубрики:
Плазма -- Методы исследования

Кл.слова (ненормированные): ПЛАЗМА
Доп. точки доступа:
Kardaun, O.J.W.F.
Riedel, K.S.
McCarthy, P.J.
Lackner, K.

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): R/8035/IPP 5/35)

Шифр в сводном ЭК: a28e2e3b0e377eb2646c748c7fb0491c

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽