Полное описание

The effect of substrate temperature on the properties of nanostructured silicon carbide films deposited by hypersonic plasma particle deposition / J.Blum,N.Tymiak,A.Neuman и др. - Minneapolis(Mn) : [s. n.], 1999. - 32 p. : ill. - (UMSI research report / Univ.of Minnesota ; 99/19). - Текст : непосредственный.
Библиогр.в кн.

ГРНТИ	УДК
61.31.47	661.665.1-416

Рубрики:
Кремний, карбиды, пленки

Кл.слова (ненормированные): КРЕМНИЙ
Доп. точки доступа:
Blum, J.
Tymiak, N.
Neuman, A.
Wong, Z.

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): R/17401/99/19)

Шифр в сводном ЭК: 9d5c82c74ba04d5101fc846ddd395585

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽