Полное описание
> Hapke, P. VHF-Plasmaabscheidung von mikrokristallinem Silizium (uc-Si:H):Einfluss der Plasmaanregungsfrequenz auf die strukturellen und elektrischen Eigenschaften : Diss. / P.Hapke. - Aachen, 1995. - 101 S. : Ill. - Текст : непосредственный.
Библиогр.:с.94-101
ГРНТИ | УДК | |
29.19.31 | 537.311.322:539.23(043) |
Рубрики:
Кремниевые пленки -- Производство
Кл.слова (ненормированные): КРЕМНИЕВАЯ ПЛЕНКА
Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): J2/26191)>
Шифр в сводном ЭК: 87c98e42170af91093863c1e02a80814
Заказ фрагмента документа ₽