Полное описание

Ивин, В. В. Исследование предельных возможностей использования оптической литографии в области критических размеров менее 0,2 мкм с помощью математического моделирования / В.В.Ивин,Т.М.Махвиладзе. - М. : [б. и.], 2000. - 21 с. : ил. - (Препринт / Физико-технологический ин-т(Москва) ; 23). - 50 экз. - .

ГРНТИ	УДК
47.13.11	621.3.049.77-047.84:776(04)

Рубрики:
Фотолитография

Кл.слова (ненормированные): ФОТОЛИТОГРАФИЯ
Доп. точки доступа:
Махвиладзе, Т.М.

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : г. Москва, ул. 3-я Хорошёвская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): М/57213/23)

Шифр в сводном ЭК: 67af696e064ffde0714caac700e81e37

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽