Полное описание

Технологии плазмо-каталитического роста углеродных наноструктур : особенности и применение в автоэмиссионных схемах / Э. А. Ильичев, Д. М. Мигунов, Г. Н. Петрухин [и др.]. - Текст : непосредственный // Проблемы разработки перспективных микро- и наноэлектронных систем - 2010 (МЭС - 2010) : сб. тр. IV Всерос. науч.-техн. конф., 4-8 окт. 2010 г., Москва. - М., 2010. - С. 632-637. - Библиогр.: 12 назв.
ГРНТИ 47.09.48

Аннотация: Представлены особенности PECCVD (Plasma Enhanced Catalytic Chemical Vapor Deposition) технологии роста углеродных наноструктур. Показана возможность контролируемого роста наноструктур определенного типа с помощью вариации величины постоянного поля, приложенного перпендикулярно к поверхности образца.
Доп. точки доступа:
Ильичев, Э.А.
Мигунов, Д.М.
Петрухин, Г.Н.
Полторацкий, Э.А.
Рычков, Г.С.
Набиев, Р.М.
Купченко, Л.Л.


Имеются экземпляры в отделах: всего -20101223 : ПНТ (-20101223)
Свободны: ПНТ (1)
Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): -998269-566736)

Шифр в сводном ЭК: 61bbb5c6d4dcd3945cf2c70fe0834c5a

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽