Полное описание

Fujii, K. Development of oxidation resistant SiC/C compositionally gradient materials / K.Fujii,J.Nakano,M.Shindo. - Tokyo : [s. n.], 1994. - 15 p. : ill. - (Reports JAERI / Japan atomic energy research inst. ; m 94-001). - Текст : непосредственный.
Рез.яп.Библиогр.:с.8

ГРНТИ	УДК
61.31.51	661.666.094.3

Рубрики:
Углеродистые материалы и изделия

Кл.слова (ненормированные): УГЛЕРОДИСТЫЙ МАТЕРИАЛ
Доп. точки доступа:
Nakano, J.
Shindo, M.

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): R/4310/M 94-001)

Шифр в сводном ЭК: 3788a2fdc70232ee12e241802118f45e

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽