• ВХОД
  •  

    Полное описание

    Установки для получения окисных пленок / ВЦП. - 17 c. : ил. - Япон.яз. - Пер.ст. / Е. Акаси из журн.: // Дэнси дзайре. - 1988. - N 12(прилож). - P. 30-35. - Текст : непосредственный.
    Библиогр.: 9 назв.
    ГРНТИ 47.33

    Рубрики:
    Полупроводниковые приборы

    Кл.слова (ненормированные): КРЕМНИЕВЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ПЛАСТИНЫ -- ПЛЕНКИ ДИОКСИДА КРЕМНИЯ -- ТЕРМИЧЕСКОЕ ОКСИДИРОВАНИЕ -- ХИМИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ
    Доп. точки доступа:
    Акаси, Е.

    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): 06932000668)

    Шифр в сводном ЭК: f0dd7fb809a84bd1061140f2b420b133



    Заказ фрагмента документа ₽