Полное описание
> Установки для получения окисных пленок / ВЦП. - 17 c. : ил. - Япон.яз. - Пер.ст. / Е. Акаси из журн.: // Дэнси дзайре. - 1988. - N 12(прилож). - P. 30-35. - Текст : непосредственный.
Библиогр.: 9 назв.
ГРНТИ 47.33
Рубрики:
Полупроводниковые приборы
Кл.слова (ненормированные): КРЕМНИЕВЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ПЛАСТИНЫ -- ПЛЕНКИ ДИОКСИДА КРЕМНИЯ -- ТЕРМИЧЕСКОЕ ОКСИДИРОВАНИЕ -- ХИМИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ
Доп. точки доступа:
Акаси, Е.
Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): 06932000668)>
Шифр в сводном ЭК: f0dd7fb809a84bd1061140f2b420b133
Заказ фрагмента документа ₽