Полное описание

Юрчук, С. Ю. Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур с нанометровыми размерами : курс лекций / С. Ю. Юрчук. - М. : МИСИС, 2013. - 44 с. : ил. - Библиогр.: с. 44. - 80 экз. - ISBN 978-5-87623-662-3. - Текст : непосредственный.

ГРНТИ	УДК
81.13.30	620.3-047.58
81.09.39	620.22-022.532-047.58
29.19.03	538.91-022.532-047.58

Рубрики:
Нанотехнологии -- Моделирование
Наноструктурные материалы -- Моделирование
Наноструктуры -- Моделирование

Аннотация: Описаны основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, которые накладываются на процесс фотолитографии. Приведена теория электронной эмиссии, используемая для моделирования формирования электронного пучка. Описан эффект близости, который вносит ограничения в точность формирования изображения при электронной литографии. Показаны способы коррекции эффекта близости.
Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): Д9-13/94959)

Шифр в сводном ЭК: 87652271210e044bc0a3f7d894e0092f

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽