Полное описание

Chung, S. -J. Strukturprofilsimulation dicker Schichten in der optischen Lithographie mit DNQ-Novolak-basierenden Photoresists / S.-J.Chung,H.Hein,J.Schulz. - Karlsruhe : [s. n.], 1998. - 94 S. : Ill. - (Wissenschaftliche Berichte / FZKA, ISSN 0947-8620 ; 6111). - Текст : непосредственный.
Библиогр.:с.87-89

ГРНТИ	УДК
47.13.11	621.3.049.77-047.84:776

Рубрики:
Фотолитография

Кл.слова (ненормированные): ФОТОЛИТОГРАФИЯ
Доп. точки доступа:
Hein, H.
Schulz, J.

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): R/17669/6111)

Шифр в сводном ЭК: 7e6e0f5e8f38adc7ba8edb2766da96ae

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽