Zipfl P. Untersuchungen des Isolationsverhaltens von SF6 und SF6/N2-Gemischen bei Beanspruchung durch hochfrequent oszillierende Stossspannungen unter Verwendung eines weiterentwickelten Kurzzeitkamerasystems / P. Zipfl, 1992. - 146 S. - Текст : непосредственный.