Полное описание

Диссоциация фторсилана SiF двухчастотным излучением непрерывного СО лазера с целью получения кластеров кремния / М.Эбрехт,Ф.Хускен,В.В.Смирнов и др. - М. : [б. и.], 1995. - 38 c. : ил. - (Препринт / Институт общей физики (Москва) ; 24). - 38 экз. - Текст : непосредственный.

ГРНТИ	УДК
47.33.37	621.3.049.76.002(04)

Рубрики:
Микроэлектронные приборы -- Обработка лазерная

Кл.слова (ненормированные): ЛАЗЕРНАЯ ОБРАБОТКА -- МИКРОЭЛЕКТРОННЫЙ ПРИБОР
Доп. точки доступа:
Эбрехт, М.
Хускен, Ф.
Смирнов, В.В.

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): М/42285/24)

Шифр в сводном ЭК: 4921e27f9fe6a617edf4de4916a15153

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽