• ВХОД
  •  

    Полное описание

    Д11-24/26019
    621.3/С 288
    Сейсян, Рубен Павлович (доктор технических наук ; 1936-2024). Нанолитография в экстремальном ультрафиолете и мягком рентгене / Р. П. Сейсян. - Санкт-Петербург : ПОЛИТЕХ-ПРЕСС, 2024. - 133 с. : ил. - Библиогр.: с. 128-133 (69 назв.). - 500 экз. - ISBN 978-5-7422-8528-1 : 150 р. - Текст (визуальный) : непосредственный.
    ГРНТИ УДК
    47.13.33621.3.049.77-047.84:776
    81.13.30620.3

    Рубрики:
    Электронолитография
    Нанотехнологии

    Кл.слова (ненормированные): фотолитография -- микроэлектроника -- ультрафиолетовые лучи -- рентгеновские лучи -- интегральные схемы -- нанолитографы
    Аннотация: Выполнен анализ тенденций развития микроэлектроники, в том числе основания известного закона Мура. Рассматривается роль в этом процессе фотолитографии и возможная роль в дальнейшем развитии микроэлектроники нанолитографии в экстремальном ультрафиолете и мягком рентгене. Обзор основан на обширном экспериментальном и теоретическом материале, на рассмотрении известных литературных данных, а также собственных работ автора и взаимодействующих с ним исследователей, главным образом вовлечённых в разработку нанолитографической системы, названной автором проектом ФТИ. Изложение охватывает основные элементы, входящие в построение ЭУФ- и МР-литографа. Такой подход даёт возможность рассмотрения проблемы с единых позиций, а также максимального приближения к актуальным отечественным задачам.Экз-ры полностью Д11-24/26019
    Имеются экземпляры в отделах: всего 3 : ХРЦ (2), ХРР (1)
    Свободны: ХРЦ (2), ХРР (1)
    Обложка



    Заказ фрагмента документа ₽