Приложение
для AndroidПолное описание
International MicroProcess conference (9th ; 1996 ; Kitakyusyu-City). The 9th international MicroProcess conference,held in Kitakyusyu-City,July 8-11,1996 / MPC'96. - Tokyo : The Japan soc. of appl. phys., 1996. - 6348-6695 p. p. : ill. - (Japanese journal of applied physics, ISSN 0021-4922 ; 1996,Vol.35,N12B). - Б. ц. - Текст : непосредственный.
Библиогр.в конце статей.Указ.в конце журн.
| ГРНТИ | УДК | |
| 47.13.11 | 621.3.049.76-047.84(062) |
Рубрики:
Микроэлектронные приборы -- Производство -- Съезды и конференции
Кл.слова (ненормированные): микроэлектронный прибор
Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
Свободны: ХР (1)
Papers prsented at the joint international symposium on optical memory and optical data storage,Maui(Hi),on July 8-12,1996 / ISOM/ODS'96, 1997. - 403-594 p. p. - Текст : непосредственный.The 9th international MicroProcess conference,held in Kitakyusyu-City,July 8-11,1996 / MPC'96, 1996. - 6348-6695 p. p. - Текст : непосредственный.Solid state devices and materials : Papers presented intern.conf.on solid state ..,Yakohama,Aug.26-29,1996 / SSDM'96, 1997. - 1319-1993 p. p. - Текст : непосредственный.modifications structurales apportees par les nouveaux procedes d'usinage et de mise en forme : Colloque intern.,19-20 nov.,1992, 1992. - Pag.var. Optical memories : Intern.symp.on optical memory,Sapporo,Oct.1-4,1991 / ISOM'91, 1992. - VII,308 p. p. - Текст : непосредственный.MicroProcess : The 5th (4th intern.) microprocess conf.,Kanagawa,13-16 July 1992 / MPC 92, 1992. - 4103-4585 p. p.Plasma processing : Papers presented at the 3rd intern.conf.on reactive plasmas held in Nara,on Jan.21-24,1997 / ICRP-3;Ed.:Y.Kawai et.al. Pt. 1 : Regular papers,short notes & review papers, 1997. - 4547-5024 p. p. - Текст : непосредственный.Ferroelectric materials and their applications : Papers presented at the 14th meeting on ferrowlectric materials and their applications,Kyoto,May 28-31,1997 / FMA-14, 1997. - 5789-6166 p. p. - Текст : непосредственный.Microprocesses and nanotechnology : The 10th Intern.microprocesses and nanotechnology conf.,July 7-10,1997,Nagoya / MNC'97, 1997. - 7473-7808 p. p. - Текст : непосредственный.Papers presented at the 6th microoptics conference and 14th topical meeting on gradient-index..,Tokyo, Oct.7-9,1997 / MOC/GRIN'97, 1998. - 3633-3637 p. p. - Текст : непосредственный.Ultrasonic electronics : 18th symp.on ultrasonic electronics, Chiba,Nov.12-14,1997 / USE97. Pt. 1 : Regular papers,short notes & review papers, 1998. - 2775-3173 p. p. - Текст : непосредственный.Plasma processing : Papers at the 4th intern.conf.on reactive plasmas,Maui,Oct.19-23,1998 / ICRP-4. Pt. 1 : Regular papers,short notes & review papers, 1999. - 4263-4617 p. p. - Текст : непосредственный.Ferroelectric materials and their applications : 16th meet.on ferroelectric materials and their applications,May 26-29, 1999 / FMA-16, 1999. - 5305-5694 p. p. - Текст : непосредственный.Microoptics : 7th microoptics conf., Chiba, Jul.14-16, 1999 / MOC'99;Ed.:K.Goto et al. Pt. 1, 2000. - 1463-1581 p. p. - Текст : непосредственный.Solid state devices and materials : Papers presented at the intern.conf.on solid state.., Tokyo,Sept.21-24, 1999 / SSDM'99, 2000. - 1963-2482 p. p. - Текст : непосредственный.Ultrasonic electronics : 20th memorial symp.on ultrasonic electronics, Ohfuh-kan, 17-19, Nov.1999 / USE 99, 2000. - 2883-3269 p. p. - Текст : непосредственный.Papers presented at the 3rd international symposium on surface science for micro- and nano-device fabrication, Tokyo, Nov.29- Dec.1, 1999 / ISSS-3, 2000. - 4255-4691 p. p. - Текст : непосредственный.Ultrasonic electronics : 21st symp.on ultrasonic electronics, Sendai 6-8 Nov., 2000 / USE 2000, 2001. - 3479-3932 p. p. - Текст : непосредственный.proceedings of the international symposium on optical memory, Sept.26-28, 1989, Kobe / ISAP)Jap.soc.of applied physics, 1989. - 382 p. - Текст : непосредственный.Japanese Journal of Applied Physics. - Журнал выходит с 1962г. r=on-line. - Текст : электронный.
Показать все результатыХимическое осаждение из газовой фазы металлоорганических соединений Tl2CfBa2Cu20y / ВЦП ГР. - 9 с. - Текст : непосредственный.Применение керамических материалов для корпусирования приборов микроэлектроники / ВЦП. - 25 с. - Текст : непосредственный.Техническое руководство по прецизионным скрайберам стекла фирмы VPI / ВЦП-. - c. - Текст : непосредственный.Каталог запасных частей / ВЦП. - 26 c. - Текст : непосредственный.Чон Сек Хен.Автоматизированное проектирование топологии аналого-цифровых интегральных схем РЭС на персональных ЭВМ : Автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.техн.наук:05.12.13 / Чон Сек Хен, 1991. - 14 с. - Текст : непосредственный.Руководство по работе с системой MIT 4 / ВЦП. - 151 c. - Текст : непосредственный.Быстрые тепловые процессы. Изучение окисления кремния и активация внедренной примеси бора / ВЦП. - 55 c. - Текст : непосредственный.Основные направления развития компьютерной технологии. Приложение А. Технологии изготовления полупроводниковых приборов / ВЦП. - 35 c. - Текст : непосредственный.Оскар Хосе Араика Ривера.Радиационные дефекты в имплантированных слоях кремния п-типа и их воздействие на диффузию сурьмы и мышьяка : Автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.физ.-мат.наук:01.04.10 / Оскар Хосе Араика Ривера, 1993. - 14 с. - Текст : непосредственный.Автоматическая пила для резки полупроводниковых пластин на кристаллы, модель DAD-2H/6T, DAD-2H/6TM (Часть II) / ВЦП. - 124 c. - Текст : непосредственный.Автоматическая пила для резки полупроводниковых пластин на кристаллы.В 2-х кн. / ВЦП. - 106 с. - Текст : непосредственный.Диффузионная сварка кремния / ВЦП. - 9 c. - Текст : непосредственный.Ангер Вакумат. Документация / ВЦП. - 41 c. - Текст : непосредственный.Суетин Н.В. Теоретическое исследование газовых разрядов,используемых в плазменной микротехнологии : Автореферат диссертации на соискание ученой степени д-ра физ.-мат.наук:01.04.08 / Н. В. Суетин, 1993. - 22 с. - Текст : непосредственный.Коваль Ю.И. Исследование особенностей воздействия ионного облучения на свойства полимерных масок в процессах микроструктурирования : Автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.физ.-мат.наук:05.27.01 / Ю. И. Коваль, 1993. - 19 с. - Текст : непосредственный.Волков А.Б. Электрофизические свойства микромостиков, формируемых туннельным зондом : Автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.физ.-мат.наук:05.27.01 / А. Б. Волков, 1994. - 15 с. - Текст : непосредственный.Никифоров В.В. Разряд-ионизация кадмия на поверхности CdSe : Автореферат диссертации на соискание ученой степени канд. хим. наук: 02.00.04 / В. В. Никифоров, 1993. - 19 с. - Текст : непосредственный.Аршук Е.П. Автоматизация финишной обработки выпрямительных полупроводниковых диодов : Автореферат диссертации на соискание ученой степени канд. техн. наук: 05.13.07 / Е. П. Аршук, 1994. - 16 с. - Текст : непосредственный.Попов Г.В. Теоретические основы синтеза технологического оборудования с аэродинамическими прослойками при автоматизации производства изделий микроэлектроники : Автореферат диссертации на соискание ученой степени д-ра техн.наук:05.13.07,05.27.07 / Г. В. Попов, 1994. - 32 с. - Текст : непосредственный.Кривошеев Ю.К. Процессы тепло- и массопереноса в технологиях газофазного синтеза материалов для волоконной оптики и микроэлектроники : Автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.физ.-мат.наук:01.04.14 / Ю. К. Кривошеев, 1994. - 16 с. - Текст : непосредственный.
Показать все результатыMicroprocess : The 6th(5th intern.)microprocess conf.,Hiroshima,19-22 July,1993 / MPS 93, 1993. - 5823-6300 p. p.The 9th international MicroProcess conference,held in Kitakyusyu-City,July 8-11,1996 / MPC'96, 1996. - 6348-6695 p. p. - Текст : непосредственный.MicroProcess : The 5th (4th intern.) microprocess conf.,Kanagawa,13-16 July 1992 / MPC 92, 1992. - 4103-4585 p. p.Applied mechanics and materials. Vol. 39 : Quantum, nano, micro and information technologies : sel., peer rev. papers from the 2010 Intern. symp. on quantum, nano and micro technologies (ISQNM 2010), Oct. 27-28, 2010, Chengdu, China / International symposium on quantum, nano and micro technologies (2010; Chengdu), 2011. - XVI, 611 p. - Текст : непосредственный.Key engineering materials. Vol. 459 : Silicon science and advanced micro-device engineering I : sel., peer rev. papers from the 5th Intern. symp. on silicon science and the 1st Intern. conf. on advanced micro-device eng. (ISSS & Amde 2009), was held by the Intern. education and research center for silicon science and the advanced technology research center (ATEC), Gunma Univ. on 10 and 11 Dec. 2009 in Kiryu, Japan / International symposium on silicon science (5th; 2009; Kiryu); International conference on advanced micro-device engineering (1st; 2009; Kiryu), 2011. - XII, 282 p. - Текст : непосредственный.Micro-nano technology XIII : sel., peer rev. papers from the 13th annu. conf. of Chin. soc. of micro-nano technology, Sept. 28-30, 2011, Changchow, China / Annual conference of Chinese society of micro-nano technology (13; 2011; Changchow), 2012 r=on-line.
Заказ фрагмента документа ₽