• ВХОД
  •  

    Полное описание

    06933000667
    Установка для плазменного химического осаждения из газовой фазы с плоской рабочей камерой (модель К-1) / ВЦП. - [Б. м. : б. и.]. - 12 c. : ил. - Япон.яз. - Пер. ст. из журн.: // Дэнси дзайре. - 1989. - N 3. - P. 48-52. - Б. ц. - Текст : непосредственный.
    ГРНТИ 47.33

    Рубрики:
    Полупроводниковые приборы

    Кл.слова (ненормированные): плазменное химическое осаждение -- газовая фаза -- оксидные пленки -- полупроводниковые пластины -- микроэлектроникаЭкз-ры полностью 06933000667
    Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
    Свободны: ХР (1)
    Копия: мкф.



    Заказ фрагмента документа ₽