Полное описание

Д10-20/84502
621.9/Ф 505
Физические основы электронно-ионно-лучевых и плазменных технологий : учебное пособие для аспирантов направления 11.06.01 / Д. Б. Золотухин, А. С. Климов, А. В. Тюньков [и др.] ; Министерство науки и высшего образования Российской Федерации, Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники. - Томск : Изд-во ТУСУРа, 2020. - 172 с. : ил. - (Серия: Учебное издание ТУСУРа, 2020). - Авт. указ. на обороте тит. л. - Библиогр.: с. 162-169 (85 назв.). - 100 экз. - ISBN 978-5-86889-891-4 : 150 р. - Текст (визуальный) : непосредственный.

ГРНТИ	УДК
55.20.15	621.9.048.7
	621.9.04:533.9

Рубрики:
Электронно-ионная обработка
Плазменная обработка материалов

Кл.слова (ненормированные): электронно-ионно-плазменные технологии -- пучковое технологическое оборудование -- плазменное технологическое оборудование -- физические принципы -- вакуум -- вакуумные технологии
Аннотация: Рассматриваются основные физические процессы взаимодействия ускоренных частиц и плазмы с веществом, принципы работы пучкового и плазменного технологического оборудования, применение электронно-ионно-плазменных технологий в промышленности. Для аспирантов направления подготовки, а также студентов и аспирантов высших учебных заведений, специализирующихся в области физической электроники, ионно-плазменных и лучевых технологий, вакуумной и плазменной электроники, микро- и наноэлектроники, физики твердого тела, материаловедения. Учебное пособие может быть полезным для специалистов и инженеров, сфера деятельности которых касается взаимодействия плазмы и ионных пучков с поверхностью, методов обработки материалов потоками заряженных частиц.
Доп. точки доступа:
Золотухин, Денис Борисович
Климов, Александр Сергеевич
Тюньков, Андрей Владимирович
Окс, Е.М.
Юшков, Ю.Г.
Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХРЦ (1)
Свободны: ХРЦ (1)

Заказать
Заказ фрагмента документа ₽