• ВХОД
  •  

    Полное описание

    R/1085/257
    Ritala, M. Atomic layer epitaxy growth of titanium, zirconium and hafnium dioxide thin films / M.Ritala. - Helsinki : [s. n.], 1994. - 48 p. : ill. - (Annales academiae scientiarum Fennicae. Ser.A,II, Chemica / Suomal.tiedeakat., ISSN 0066-1961 ; n257). - 500 р. - Текст : непосредственный.
    Библиогр.:с.45-48
    ГРНТИ УДК
    61.31.51541.451:539.216.2

    Рубрики:
    Оксидные пленки -- Методы исследования
    Экз-ры полностью R/1085/257
    Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
    Свободны: ХР (1)



    Заказ фрагмента документа ₽