• ВХОД
  •  

    Полное описание

    Наумов, В. В. Исследование процессов низкотемпературного плазмостимулированного роста пленок диоксида циркония стабилизированного иттрием : специальность 05.27.01 "Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и нано-электроника, приборы на квантовых эффектах" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд. физ.-мат. наук / В. В. Наумов. - Ярославль, 1999. - 24 с. : ил. - Текст : непосредственный.
    Библиогр.:с. 21-23(26 назв.)

    ГРНТИ УДК
    38.39.17666.233(043)

    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): АР99-3026)

    Шифр в сводном ЭК: 0377d52383e1bba9a239d058769841bd



    Заказ фрагмента документа ₽