• ВХОД

    •  

    Полное описание

    Голишников, Александр Анатольевич. Плазменные процессы в наноэлектронике, микро- и наносистемной технике : учебное пособие / А. А. Голишников, М. Г. Путря ; Министерство науки и высшего образования Российской Федерации, Национальный исследовательский университет "МИЭТ". - Москва : МИЭТ, 2022. - 163 с. : ил. - Библиогр.: с. 159-161 (38 назв.). - 300 экз. - ISBN 978-5-7256-0992-9. - Текст (визуальный) : непосредственный.
    ГРНТИ УДК
    47.13.07621.384-022.532-047.84
    45.33621.31-181.4-047.84
    81.13.30621.31-022.532-047.84

    Рубрики:
    Наноэлектронные устройства -- Производство
    Микроэлектромеханические системы -- Производство
    Наноэлектромеханические системы -- Производство

    Кл.слова (ненормированные): ИНТЕГРАЛЬНЫЕ СХЕМЫ -- ИОННО-ПЛАЗМЕННАЯ ИМПЛАНТАЦИЯ -- ИОННО-ПЛАЗМЕННОЕ ЛЕГИРОВАНИЕ -- ИОННО-ПУЧКОВАЯ ИМПЛАНТАЦИЯ -- ИСТОЧНИКИ ПЛАЗМЫ -- МИКРОСИСТЕМОТЕХНИКА -- ОСАЖДЕНИЕ -- ПЛАЗМЕННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ -- ПЛАЗМЕННОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- ПОЛУЧЕНИЕ ТОНКИХ ПЛЕНОК
    Аннотация: Рассмотрены базовые плазменные технологии и их применение в производстве ИС, МЭМС и НЭМС. Описаны процессы плазменного травления, плазма активируемого химического осаждения из газовой фазы, осаждения функциональных слоев магнетронным распылением и процессы плазменно иммерсионной ионной имплантации. Для студентов, обучающихся по дисциплинам "Технология интегральных схем", "Проектирование и технология электронной компонентной базы" и "Технологические процессы наноэлектроники".
    Доп. точки доступа:
    Путря, Михаил Георгиевич
    "МИЭТ", национальный исследовательский университет (Москва)

    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): Д11-22/8185)

    Шифр в сводном ЭК: ce4d6424fbb46759bb79283234523098



    Заказ фрагмента документа ₽