• ВХОД
  •  

    Полное описание

    Шишлянников, Антон Валерьевич. Исследование методов формирования структур с критическими размерами до 10 нм электронно-лучевой литографией на основе HSQ резиста : 05.27.01 - твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и наноэлектроника, приборы на квантовых эффектах: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук / Шишлянников Антон Валерьевич ; Научно-исследовательский институт молекулярной электроники (НИИМЭ). - 2021. - 23 с. : цв. ил. - Библиогр.: с. 23 (5 назв.). - Тираж не указ. - Текст : непосредственный.

    ГРНТИ УДК
    47.13.33621.3.049.77-047.84:776(043)

    Кл.слова (ненормированные): ВОДОРОД-СИЛСЕСКВИОКСАН -- НАНОРАЗМЕРНЫЕ СТРУКТУРЫ -- НАНОЭЛЕКТРОНИКА -- ПРОИЗВОДСТВО -- ЭЛЕКТРОННЫЙ РЕЗИСТ -- ЭЛЕКТРОНОЛИТОГРАФИЯ
    Доп. точки доступа:
    Научно-исследовательский институт молекулярной электроники (Москва)

    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): Ар21-8587)

    Шифр в сводном ЭК: 136504accebb2b77000bc34e02444e0d



    Заказ фрагмента документа ₽