• ВХОД

    •  

    Полное описание

    Юнга, А. Н. Дозы облучения микро- и нанослоев при образовании свежих поверхностей / А. Н. Юнга, В. А. Никеров. - Текст : непосредственный // Функциональные наноматериалы для космической техники : тр. 2-й Всерос. шк.-семинара студентов, аспирантов и молодых ученых, 17-19 мая 2011 г., Москва. - М., 2011. - С. 145-149. - Библиогр.: 3 назв.
    ГРНТИ 29.19.17

    Аннотация: Потоки релятивистских электронов высокой интенсивности имеют электронные пучки, рождающиеся при разматывании липких лент. Эти пучки могут обеспечивать существенную дозовую нагрузку в микро- и нанослоях при отрыве липких лент от различных приборов и материалов, а также при разломе и разрыве материалов. Рассчитана эта нагрузка с использованием модели обобщенной диффузии нерелятивистских электронов.
    Доп. точки доступа:
    Никеров, В.А.

    Экз-ры полностью c45020283507088def32aafada328bb5
    Нет сведений об экземплярах
    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): -009073-746401)

    Шифр в сводном ЭК: 61f23d6e84a582ed89b66ad1213aa332




    Заказ фрагмента документа ₽