Полное описание
> Пащенко, А. С. Ионно-плазменные технологии в микро- и наноэлектронике / А. С. Пащенко, П. С. Пляка, В. О. Пономаренко. - Ростов н/Д : Изд-во ЮНЦ РАН, 2013. - 175 с. : ил. - Парал. тит.л. англ. - Библиогр.: с. 168-175 (85 назв.). - 200 экз. - ISBN 978-5-4358-0057-9. - Текст : непосредственный.
В надзаг.: Рос. акад. наук, Юж. науч. центр
| ГРНТИ | УДК | |
| 47.13.33 | 621.3.049.76-047.84 | |
| 47.13.07 | 621.384-022.532-047.84 |
Рубрики:
Микроэлектронные приборы -- Производство
Наноэлектронные устройства -- Производство
Аннотация: Физические основы ионно-плазменных технологий. Процессы модификации подложки и кристаллизации пленок. Результаты исследования свойств плазмы и выращенных структур.
Доп. точки доступа:
Пляка, П.С.
Пономаренко, В.О.
Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): Д10-13/5984)>
Шифр в сводном ЭК: 184a5513997b6a4fe6435b59009619ff
Пащенко А.С. Получение фотоактивных материалов на основе Si и InAs методом ионно-лучевого осаждения / А. С. Пащенко, 2012. - 16 с. - Текст : непосредственный.Пономаренко В.О. Динамика поверхностного слоя монокристаллических подложек при газоразрядном напылении пленок : автореф. дис. .. канд. физ.-мат. наук: 01.04.07 / В. О. Пономаренко, 2010. - 24 с. - Текст : непосредственный.Пащенко А.С. Ионно-плазменные технологии в микро- и наноэлектронике / А. С. Пащенко, П. С. Пляка, В. О. Пономаренко, 2013. - 175 с. - Текст : непосредственный.Пляка П.С. Исследование асимметричного емкостного высокочастотного разряда при распылении феррита висмута в кислороде : автореф. дис. .. канд. физ.-мат. наук: 01.04.03 / П. С. Пляка, 2010. - 21 с. - Текст : непосредственный.Чеботарев С.Н. Фотоэлектрические преобразователи на гетероструктурах с квантовыми точками / С. Н. Чеботарев, А. С. Пащенко. - Текст : непосредственный // Физика полупроводников и наноструктур, полупроводниковая опто- и наноэлектроника : материалы всерос. молодеж. конф., 11-12 окт. 2012 г., Новочеркасск. - Новочеркасск. - 2012. - с. 20-28
Frey H. Ionenstrahlgestutzte Halbleitertechnologie / H. Frey, 1992. - 131 S. - Текст : непосредственный.Зятьков И.И. Моделирование технологических процессов формирования полупроводниковых структур / И. И. Зятьков, Е. П. Юрченко, 1994. - 6 c. - Текст : непосредственный.Кривошеева А.Н. Процессы жидкостного химического травления в технологии микросистем. Жидкостное химическое травление полупроводниковых материалов : выставочные материалы / А. Н. Кривошеева, В. В. Лучинин, 2012. - 118 с. - Текст : непосредственный.Моделирование формирования глубоких структур в плазменных процессах микро-нанотехнологии : выставочные материалы / И. И. Амиров, В. Ф. Лукичев, А. А. Мельников, А. С. Шумилов, 2013. - 35 с. - Текст : непосредственный.Игнатьев А.А. Основы магнитоэлектроники миллиметрового диапазона : специальность 01.04.03 "Радиофизика" : автореферат диссертации на соискание ученой степени д-ра физ.-мат.наук / А. А. Игнатьев, 1992. - 30 с. - Текст : непосредственный.International Journal of Electronics. - Журнал выходит с 1965г. r=on-line. - Текст : электронный.Трунин Д.А. Физико-технические основы систем переноса изображения на эффекте обращения волнового фронта для микроэлектронной технологии : специальность 05.27.01 "Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и нано-электроника, приборы на квантовых эффектах" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд. физ.-мат. наук / Д. А. Трунин, 2003. - 22 с. - Текст : непосредственный.Смирнова Н.А. Разработка технологии изготовления подложек CdZnTe для выращивания гетероструктур CdHgTe/CdZnTe методом жидкофазной эпитаксии : специальность 05.17.01 "Технология неорганических веществ" : диссертация на соискание ученой степени канд. техн. наук / Н. А. Смирнова, 2007. - 24 с. - Текст : непосредственный.Wissenschaftliche Berichte / FZKA. 7215 : Hochauflosende Rontgenlithografie zur Herstellung polymerer Submikrometerstrukturen mit grossem Aspektverhaltnis : Diss. / T.Mappes, S.Achenbach, J.Mohr, 2006. - IV, 71 S. - Текст : непосредственный.Брец И.Е. Исследование и разработка методов и подсистем ввода и формирования электрических схем в интегрированной САПР РЭА : специальность 05.13.12 "Системы автоматизации проектирования (по отраслям)" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.техн.наук / И. Е. Брец, 1991. - 16 с. - Текст : непосредственный.Молодечкина Т.В. Формирование легированных оксидов титана термолизом алкоксисоединений для компонентов электронной техники / Т. В. Молодечкина, 2004. - 21 с. - Текст : непосредственный.Рахматуллаев Х.Б. Процессы двухэлектронной локализации и делокализации на примесных атомах олова в узкозонных полупроводниках : специальность 01.04.10 "Физика полупроводников" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.физ.-мат.наук / Х. Б. Рахматуллаев, 1991. - 15 с. - Текст : непосредственный.Кузнецов Г.Д. Ионно-плазменная обработка материалов : учебное пособие / Г. Д. Кузнецов, А. Р. Кушхов, 2008. - 179 с. - Текст : непосредственный.Тимаев А.А. Исследование и разработка системы диалогового схемотехнического проектирования для ЭВМ типа СМ-1700 : специальность 05.13.12 "Системы автоматизации проектирования (по отраслям)" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.техн.наук / А. А. Тимаев, 1992. - 16 с. - Текст : непосредственный.Яковлева Н.Г. Разработка средств самообучения для интеллектуальной САПР РЭА : специальность 05.13.12 "Системы автоматизации проектирования (по отраслям)" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.техн.наук / Н. Г. Яковлева, 1992. - 16 с. - Текст : непосредственный.Смирнов В.А. Разработка и исследование технологических основ процесса фотонностимулированного локального анодного окисления наноструктур на основе Si/SiO2/Ii : специальность 05.27.01 "Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и нано-электроника, приборы на квантовых эффектах" : диссертация на соискание ученой степени канд. техн. наук / В. А. Смирнов, 2008. - 23 с. - Текст : непосредственный.Пархутик В.П. Плазменное анодирование : монография / В. П. Пархутик, В. А. Лабунов, 1990. - 280 c. - Текст : непосредственный.Бордусов С.В. Процессы и устройства СВЧ плазмохимиче ского удаления материалов при формировании изделий электронной техники : специальность 05.27.06 "Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники" : автореферат диссертации на соискание ученой степени д-ра техн. наук / С. В. Бордусов, 2003. - 41 с. - Текст : непосредственный.Шипатов Э.Т. Ионно-лучевая модификация свойств металлов, сверхпроводников и пленок ферритов-гранатов : учебное пособие / Э. Т. Шипатов, 2007. - 111 с. - Текст : непосредственный.Ito H. Microlithography в· molecular imprinting / H. Ito, 2005 r=on-line. - Текст : электронный.
Показать все результатыМоделирование формирования глубоких структур в плазменных процессах микро-нанотехнологии : выставочные материалы / И. И. Амиров, В. Ф. Лукичев, А. А. Мельников, А. С. Шумилов, 2013. - 35 с. - Текст : непосредственный.Манукянц А.Р. Влияние внешних воздействий на поверхностную энергию и поверхностное сопротивление металлических систем / А. Р. Манукянц, 2010. - 23 с. - Текст : непосредственный.Micro-nano technology XIII : материалы временных коллективов / Annual conference of Chinese society of micro-nano technology (13 ; 2011 ; Changchow), 2012 r=on-line. - Текст : электронный.Гаврилов С.А. Электрохимические процессы в технологии микро- и наноэлектроники : выставочные материалы / С. А. Гаврилов, А. Н. Белов, 2014. - 239 с. - Текст : непосредственный.Моисеев К.М. Управление рельефом поверхности самоупорядоченных глобулярных микроструктур для изделий электронной техники / К. М. Моисеев, 2012. - 16 с. - Текст : непосредственный.Дунаев А.В. Кинетика и механизмы взаимодействия неравновесной низкотемпературной плазмы хлора и хлороводорода с алюминием и арсенидом галлия / А. В. Дунаев, 2011. - 16 с. - Текст : непосредственный.Мир материалов и технологий. 6(14) : Нанотехнологии для микро- и оптоэлектроники / Д. М. Мартинес-Дуарт, Р. Д. Мартин-Палма, Ф. Агулло-Руеда; пер. с англ. А. В. Хачояна; под ред. Е. Б. Якимова, 2007. - 367 с. - Текст : непосредственный.Захарова И.Б. Физические основы микро- и нанотехнологий : выставочные материалы / И. Б. Захарова, 2010. - 200 с. - Текст : непосредственный.
Муслимов А.Э. Управляемая перестройка поверхности кристаллических подложек для формирования эпитаксиальных наноструктур / А. Э. Муслимов, 2018. - 43 с. - Текст : непосредственный.Осипов А.А. Разработка технологии скоростного глубокого плазмохимического травления монокристаллического кварца, карбида кремния и ниобата лития при малой мощности : специальность 05.27.06 - Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук / А. А. Осипов, 2019. - 19 с. - Текст : непосредственный.Спешилова А.Б. Разработка технологии формирования фоторезистивных пленок прецизионной толщины с минимальной шероховатостью поверхности плазмохимическим травлением : специальность 05.27.06 - Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук / А. Б. Спешилова, 2019. - 21 с. - Текст : непосредственный.The 2010 International workshop on materials for advanced metallization, was held from Mar. 7th to Mar. 10th in Mechelen (Malines), Belgium / International workshop on materials for advanced metallization (2010; Mechelen (Malines)), 2011. - VIII, 536-845 p. - Текст : непосредственный.Элионная технология в микро- и наноиндустрии. Ускоренные ионы : учеб. пособие / Г. Д. Кузнецов [и др.], 2012. - 127 с. - Текст : электронный.Введение в процессы интегральных микро- и нанотехнологий : в 2 т. / М. В. Акуленок [и др.]. Т. 2 : Технологические аспекты, 2011. - 252 с. - Текст : непосредственный.The 9th international MicroProcess conference,held in Kitakyusyu-City,July 8-11,1996 / MPC'96, 1996. - 6348-6695 p. p. - Текст : непосредственный.
Показать все результаты| Лицевая сторона карточки | Обратная сторона карточки |
| Лицевая сторона карточки | Обратная сторона карточки |
| Лицевая сторона карточки | Обратная сторона карточки |
| Лицевая сторона карточки | Обратная сторона карточки |
| Лицевая сторона карточки | Обратная сторона карточки |
Заказ фрагмента документа ₽