Полное описание
Springer series in advanced microelectronics / ed. K. Itoh [et al.]. - Berlin [etc.] : Springer, 20 - . - Текст : непосредственный. 19 : Gettering defects in semiconductors / V. A. Perevostchikov, V. D. Skoupov. - Berlin [etc.] : Springer, 2005. - XV,386 p. : ill. - Библиогр.: с. 343-366. Указ.: с. 367-386
ГРНТИ УДК 47.13.33 621.315.592.002:669.046.516
Рубрики: Ионное внедрение
Доп. точки доступа: Itoh, K.\ed.\
Skoupov, V.D.
Экз-ры полностью ba333bf4309a280971b7006e9576f9ef Копия: Нет сведений об экземплярах Держатели документа: Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): R/18192/19)
Шифр в сводном ЭК: ba333bf4309a280971b7006e9576f9ef
Springer series in advanced microelectronics / ed. K. Itoh [et al.]. 16 : High dielectric constant materials : VLSI MOSFET applications / ed.: H. R. Huff, D. C. Gilmer, 2005. - XXIV, 710 p. - Текст : непосредственный. Springer series in advanced microelectronics / ed.: K. Itoh [et al.]. 18 : Microcontrollers in practice / M. Mitescu, I. Susnea, 2005. - XV, 250 p. - Текст : непосредственный. Springer series in advanced microelectronics / ed.: K. Itoh, T. Lee [at al.]. 18 : Microcontrollers in practice / M. Mitescu, I. Susnea, 2005. - 1 o=электрон. опт. диск (CD-ROM). - Текст : электронный. On turbulent transport in burning plasmas / K. Itoh, M. Yagi, S. I. Itoh, A. Fukuyama, 2000. - 6 p. - Текст : непосредственный. Itoh K. Modelling of density limit phenomena in toroidal helical plasmas / K. Itoh, S. -I. Itoh, L. Giannone, 2000. - 17 p. - Текст : непосредственный. Theory of self-sustained turbulence in confined plasmas / K. Itoh, S. -I. Itoh, A. Fukuyama, M. Yagi, 1996. - 55 p. - Текст : непосредственный. Dynamic behavior of potential in plasma core of the CHS heliotron/torsatron / A. Fujisawa, H Iguchi, H. Sanuki, K. Itoh, 1997. - 10 p. - Текст : непосредственный. Itoh K. Beta limit of resistive plasma in torsatron/heliotron / K. Itoh, K. Ichiguchi, S. -I. Itoh, 1992. - 22 p. - Текст : непосредственный. design method of divertor in Tokamak reactors / N. Ueda, S. I. Itoh, M. Tanaka, K. Itoh, 1990. - 14,[20] p. p. - Текст : непосредственный. Itoh K. Theory of anomalous transport in toroidal helical plasmas / K. Itoh, S. I. Itoh, A. Fukuyama, 1992. - 14 p. - Текст : непосредственный. model of major disruption in tokamaks / K. Itoh, S. I. Itoh, A. Fukuyama, 1992. - 20 p. - Текст : непосредственный. Critical issues and experimental examination on sawtooth and disruption physics / K. Itoh, I. Itoh, A. Fukujama, 1992. - 32 p. - Текст : непосредственный. Itoh K. Effect of alpa particles on radial electric field structure in torsatron/heliotron reactor / K. Itoh, H. Sanuki, S. -I. Itoh, 1992. - 28 p. - Текст : непосредственный. Itoh K. Model of the L-mode confinement in tokamaks / K. Itoh, S. -I. Itoh, A. Fukuyama, 1992. - 7 p. - Текст : непосредственный. Observation of parallel viscosity in the CHS heliotron/torsatron / K. Ida, H. Yamada, H. Iguchi, K. Itoh, 1991. - 12 p. - Текст : непосредственный. effect of magnetic field configuration on particle pinch velocity in compact helical system(CHS) / H. Iguchi, K. Ida, H. Yamada, K. Itoh, 1994. - 20 p. - Текст : непосредственный. Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Показать все результаты Schneider K. Highly sensitive optical receivers / K. Schneider, H. Zimmermann, 2006 r=on-line. - Текст : электронный. Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Goll B. Comparators in Nanometer CMOS Technology / B. Goll, H. Zimmermann, 2015 r=on-line. - Текст : электронный. Uhrmann H. Analog Filters in Nanometer CMOS / H. Uhrmann, R. Kolm, H. Zimmermann, 2014 r=on-line. - Текст : электронный. Breitenstein O. Lock-in thermography : basics and use for evaluating electronic devices and materials / O. Breitenstein, W. Warta, M. Langenkamp, 2010 r=on-line. - Текст : электронный. Dziuban J.A. Bonding in microsystem technology / J. A. Dziuban, 2006 r=on-line. - Текст : электронный. Low power VCO design in CMOS / M. Tiebout, 2006 r=on-line. - Текст : электронный. Ortmanns M. Continuous-time sigma-delta a/d conversion : fundamentals, performance limits and robust implementations / M. Ortmanns, F. Gerfers, 2006 r=on-line. - Текст : электронный. Witteman W.J. Detection and signal processing : technical realization / W. J. Witteman, 2006 r=on-line. - Текст : электронный. Henzler S. Time-to-Digital converters / S. Henzler, 2010 r=on-line. - Текст : электронный. System-level test and validation of hardware/software systems / ed. R. M. Sonza Reorda, 2005 r=on-line High dielectric constant materials : VLSI MOSFET applications / ed. H. Huff, 2005 r=on-line. - Текст : электронный. Mitescu M. Microcontrollers in practice / M. Mitescu, I. Susnea, 2005 r=on-line. - Текст : электронный. Perevoschikov V.A. Gettering defects in semiconductors / V. A. Perevoschikov, V. D. Skoupov, 2005 r=on-line. - Текст : электронный. Springer series in advanced microelectronics / ed. K. Itoh [et al.]. 19 : Gettering defects in semiconductors / V. A. Perevostchikov, V. D. Skoupov, 2005. - XV,386 p. - Текст : непосредственный. Fulde M. Variation aware analog and mixed-signal circuit design in emerging multi-gate CMOS technologies / M. Fulde, 2010 r=on-line. - Текст : электронный. Tong X.C. Advanced Materials for Thermal Management of Electronic Packaging : монография / by Xingcun Colin Tong., 2011 r=on-line (Введено оглавление). - Текст : электронный. Richter D. Flash Memories. Economic Principles of Performance, Cost and Reliability Optimization / D. Richter, 2014 r=on-line. - Текст : электронный. Gonzalez Ruiz P. Poly-SiGe for MEMS-above-CMOS Sensors / P. Gonzalez Ruiz, K. De Meyer, A. Witvrouw, 2014 r=on-line. - Текст : электронный. Frey H. Ionenstrahlgestutzte Halbleitertechnologie / H. Frey, 1992. - 131 S. - Текст : непосредственный. Зятьков И.И. Моделирование технологических процессов формирования полупроводниковых структур / И. И. Зятьков, Е. П. Юрченко, 1994. - 6 c. - Текст : непосредственный. Кривошеева А.Н. Процессы жидкостного химического травления в технологии микросистем. Жидкостное химическое травление полупроводниковых материалов : выставочные материалы / А. Н. Кривошеева, В. В. Лучинин, 2012. - 118 с. - Текст : непосредственный. Трунин Д.А. Физико-технические основы систем переноса изображения на эффекте обращения волнового фронта для микроэлектронной технологии : специальность 05.27.01 "Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и нано-электроника, приборы на квантовых эффектах" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд. физ.-мат. наук / Д. А. Трунин, 2003. - 22 с. - Текст : непосредственный. Смирнова Н.А. Разработка технологии изготовления подложек CdZnTe для выращивания гетероструктур CdHgTe/CdZnTe методом жидкофазной эпитаксии : специальность 05.17.01 "Технология неорганических веществ" : диссертация на соискание ученой степени канд. техн. наук / Н. А. Смирнова, 2007. - 24 с. - Текст : непосредственный. Wissenschaftliche Berichte / FZKA. 7215 : Hochauflosende Rontgenlithografie zur Herstellung polymerer Submikrometerstrukturen mit grossem Aspektverhaltnis : Diss. / T.Mappes, S.Achenbach, J.Mohr, 2006. - IV, 71 S. - Текст : непосредственный. Молодечкина Т.В. Формирование легированных оксидов титана термолизом алкоксисоединений для компонентов электронной техники / Т. В. Молодечкина, 2004. - 21 с. - Текст : непосредственный. Рахматуллаев Х.Б. Процессы двухэлектронной локализации и делокализации на примесных атомах олова в узкозонных полупроводниках : специальность 01.04.10 "Физика полупроводников" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.физ.-мат.наук / Х. Б. Рахматуллаев, 1991. - 15 с. - Текст : непосредственный. Кузнецов Г.Д. Ионно-плазменная обработка материалов : учебное пособие / Г. Д. Кузнецов, А. Р. Кушхов, 2008. - 179 с. - Текст : непосредственный. Смирнов В.А. Разработка и исследование технологических основ процесса фотонностимулированного локального анодного окисления наноструктур на основе Si/SiO2/Ii : специальность 05.27.01 "Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и нано-электроника, приборы на квантовых эффектах" : диссертация на соискание ученой степени канд. техн. наук / В. А. Смирнов, 2008. - 23 с. - Текст : непосредственный. Пархутик В.П. Плазменное анодирование : монография / В. П. Пархутик, В. А. Лабунов, 1990. - 280 c. - Текст : непосредственный. Бордусов С.В. Процессы и устройства СВЧ плазмохимиче ского удаления материалов при формировании изделий электронной техники : специальность 05.27.06 "Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники" : автореферат диссертации на соискание ученой степени д-ра техн. наук / С. В. Бордусов, 2003. - 41 с. - Текст : непосредственный. Шипатов Э.Т. Ионно-лучевая модификация свойств металлов, сверхпроводников и пленок ферритов-гранатов : учебное пособие / Э. Т. Шипатов, 2007. - 111 с. - Текст : непосредственный. Ito H. Microlithography в· molecular imprinting / H. Ito, 2005 r=on-line. - Текст : электронный. Авдиенко А.А. Физико-технические принципы построения, разработка и применение высокоэнергетичных ионных имплантеров : специальность 05.27.06 "Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники" : автореферат диссертации на соискание ученой степени д-ра техн. наук / А. А. Авдиенко, 2004. - 30 c. - Текст : непосредственный. Григорьев Д.В. Радиационное дефектообразование при ионной имплантации в варизонных полупроводниковых структ урах Cd Hg Te, выращенных мет одом молекулярно-лучевой эпитаксии / Д. В. Григорьев, 2005. - 24 с. - Текст : непосредственный. Гниденко А.А. Исследование влияния давления на поведение гелия и водорода в кристаллическом кремнии / А. А. Гниденко, 2005. - 22 с. - Текст : непосредственный. Ion beam processing of advanced electronic materials : сборник научных трудов / Ed. N. W. Cheung, 1989. - XI, 401 p. 401 p. - Текст : непосредственный. Хмельницкий Р.А. Радиационное повреждение и графитизация алмаза при ионной имплантации / Р. А. Хмельницкий, 2008. - 19 с. - Текст : непосредственный. Дунаев А.В. Кинетика и механизмы взаимодействия неравновесной низкотемпературной плазмы хлора и хлороводорода с алюминием и арсенидом галлия / А. В. Дунаев, 2011. - 16 с. - Текст : непосредственный. Показать все результаты Будилов В.В. Технология вакуумной ионно-плазменной обработки : учебное пособие / В. В. Будилов, Р. М. Киреев, С. Р. Шехтман, 2007. - 155 с. - Текст : непосредственный. Перспективные методы модификации конструкционных материалов : Обзор по отеч. и зарубеж. источникам / М-во атомной энергетики и промышленности СССР. Ч. 1 : Модификация поверхности ионной имплантацией, 1989. - 46 с. - Текст : непосредственный. Шипатов Э.Т. Ионно-лучевая модификация свойств металлов, сверхпроводников и пленок ферритов-гранатов : учебное пособие / Э. Т. Шипатов, 2007. - 111 с. - Текст : непосредственный. Титов В.В. Ионная имплантация: перспективы и альтернативы / В. В. Титов, 1997. - 15 с. - Текст : непосредственный. Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Злобин В.Н. Ионная имплантация в энергетике и машиностроении : монография / В. Н. Злобин, И. П. Васильев, 2018. - 210 с. - Текст : непосредственный. Вольпяс В.А. Физика слабоионизованной плазмы : Прикладные вопросы ионно-плазменного распыления / В.А.Вольпяс,А.Б.Козырев, 1997. - 130 с. - Текст : непосредственный. Численные и экспериментальные методы исследования получения двухзарядных ионов для целей имплантации / М. Турек [и др.], 2013. - 8 с. - Текст : непосредственный. Абдрашитов В.Г. Таблицы угловых распределений ионов при многократном рассеянии для потенциала ZBL / В. Г. Абдрашитов, В. В. Рыжов, В. В. Стародумов, 1993. - 34 с. - Текст : непосредственный. Быковский Ю.А. Ионная и лазерная имплантация металлических материалов / Ю. А. Быковский, В. Н. Неволин, В. Ю. Фоминовский, 1991. - 237 с. - Текст : непосредственный. Показать все результаты Frey H. Ionenstrahlgestutzte Halbleitertechnologie / H. Frey, 1992. - 131 S. - Текст : непосредственный. Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Наумов В.И. Расчет режимов процесса легирования полупроводниковых материалов : Учеб.пособие для студ.спец."Материалы и компоненты твердотельной электроники"и"Электроника и микроэлектроника" / В.И.Наумов,Г.Л.Гольденберг, 1998. - 52 с. - Текст : непосредственный. Дефектообразование как механизм создания свободных и локализованных дырок в Na-легированных полупроводниках типа PbTe / Г.Т.Алексеева,Ю.А.Дегтярев,Т.В.Жукова и др., 1991. - 46 с. - Текст : непосредственный. Козловский В.В. Модифицирование полупроводников пучками протонов / В.В. Козловский; Отв. ред. Р.Ш. Малкович, 2003. - 268 с. - Текст : непосредственный. Шипатов Э.Т. Имплантация ионов в полупроводники : Учеб.пособие для вузов / Э.Т.Шипатов, 1998. - 199 с. - Текст : непосредственный. Суворинов А.В. Ионно-лучевая модификация материалов : Учеб. пособие / А.В.Суворинов, 1990. - 108 с. - Текст : непосредственный. Дмитриев Ю.Н. Термодинамика изовалентного легирования кристаллов полупроводниковых соединений типа A BYI / Ю. Н. Дмитриев, В. Д. Рыжиков, Л. П. Гальчинецкий, 1990. - 50 с. - Текст : непосредственный. Фотостимулированные процессы в светочувствительных системах ХСП-А / В.А.Данько,И.З.Индутный,О.П.Касярум и др., 1989. - 26 с. - Текст : непосредственный. Фистуль В.И. Атомы легирующих примесей в полупроводниках (состояние и поведение) : Монография / В.И.Фистуль, 2004. - 431 с. - Текст : непосредственный. Костикова Г.П. Химические процессы при легировании оксидов / Г.П.Костикова,Ю.П.Костиков, 1997. - 156 с. - Текст : непосредственный. Springer series in advanced microelectronics / ed. K. Itoh [et al.]. 19 : Gettering defects in semiconductors / V. A. Perevostchikov, V. D. Skoupov, 2005. - XV,386 p. - Текст : непосредственный. Реутов В.Ф. ПЭМ-изучение в геометрии "Cross-Section" структурных изменений в кремнии в результате последовательного облучения ионами N + He и Ar +He / В.Ф.Реутов,А.С.Сохацкий, 1997. - 10 с. - Текст : непосредственный. Козловский В.В. Легирование материалов А В радиационными дефектами : Препринт / В.В.Козловский,В.Н.Абросимова, 1991. - 31 с. - Текст : непосредственный. Марголин В.И. Основы нанотехнологии. Электронная литография и ионная имплантация : Учеб.пособие / В.И.Марголин,В.А.Тупик, 2000. - 55 с. - Текст : непосредственный. Показать все результаты Заказать
Заказ фрагмента документа ₽
Приложение
для Android
