• ВХОД
  •  

    Полное описание

    Ермошин, И. Г. Разработка основ технологии получения эпитаксиальных слоев GaN, InxGa1-xN и AlxGa-xN методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений для светоизлучающих структур : автореф. дис. ... канд. техн. наук: 05.27.06 / И. Г. Ермошин. - М., 2009. - 20 с. : ил. - Библиогр.: с. 20(11 назв.). - Текст : непосредственный.

    ГРНТИ УДК
    47.33.33621.383.52.002(043)

    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): Ар09-20291)

    Шифр в сводном ЭК: b5596d352ed46fa724d6abf85720ad4d



    Заказ фрагмента документа ₽