Полное описание
Суханов, Я. Н.
ГРНТИ УДК 47.13.33 621.3.049.77-047.84:776(043)
Держатели документа: Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): Ар05-3776)
Шифр в сводном ЭК: 6d618262dacd91bb790cfc8118878cbf
Frey H. Ionenstrahlgestutzte Halbleitertechnologie / H. Frey, 1992. - 131 S. - Текст : непосредственный. Зятьков И.И. Моделирование технологических процессов формирования полупроводниковых структур / И. И. Зятьков, Е. П. Юрченко, 1994. - 6 c. - Текст : непосредственный. Кривошеева А.Н. Процессы жидкостного химического травления в технологии микросистем. Жидкостное химическое травление полупроводниковых материалов : выставочные материалы / А. Н. Кривошеева, В. В. Лучинин, 2012. - 118 с. - Текст : непосредственный. Трунин Д.А. Физико-технические основы систем переноса изображения на эффекте обращения волнового фронта для микроэлектронной технологии : специальность 05.27.01 "Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и нано-электроника, приборы на квантовых эффектах" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд. физ.-мат. наук / Д. А. Трунин, 2003. - 22 с. - Текст : непосредственный. Смирнова Н.А. Разработка технологии изготовления подложек CdZnTe для выращивания гетероструктур CdHgTe/CdZnTe методом жидкофазной эпитаксии : специальность 05.17.01 "Технология неорганических веществ" : диссертация на соискание ученой степени канд. техн. наук / Н. А. Смирнова, 2007. - 24 с. - Текст : непосредственный. Wissenschaftliche Berichte / FZKA. 7215 : Hochauflosende Rontgenlithografie zur Herstellung polymerer Submikrometerstrukturen mit grossem Aspektverhaltnis : Diss. / T.Mappes, S.Achenbach, J.Mohr, 2006. - IV, 71 S. - Текст : непосредственный. Молодечкина Т.В. Формирование легированных оксидов титана термолизом алкоксисоединений для компонентов электронной техники / Т. В. Молодечкина, 2004. - 21 с. - Текст : непосредственный. Рахматуллаев Х.Б. Процессы двухэлектронной локализации и делокализации на примесных атомах олова в узкозонных полупроводниках : специальность 01.04.10 "Физика полупроводников" : автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.физ.-мат.наук / Х. Б. Рахматуллаев, 1991. - 15 с. - Текст : непосредственный. Кузнецов Г.Д. Ионно-плазменная обработка материалов : учебное пособие / Г. Д. Кузнецов, А. Р. Кушхов, 2008. - 179 с. - Текст : непосредственный. Смирнов В.А. Разработка и исследование технологических основ процесса фотонностимулированного локального анодного окисления наноструктур на основе Si/SiO2/Ii : специальность 05.27.01 "Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и нано-электроника, приборы на квантовых эффектах" : диссертация на соискание ученой степени канд. техн. наук / В. А. Смирнов, 2008. - 23 с. - Текст : непосредственный. Пархутик В.П. Плазменное анодирование : монография / В. П. Пархутик, В. А. Лабунов, 1990. - 280 c. - Текст : непосредственный. Бордусов С.В. Процессы и устройства СВЧ плазмохимиче ского удаления материалов при формировании изделий электронной техники : специальность 05.27.06 "Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники" : автореферат диссертации на соискание ученой степени д-ра техн. наук / С. В. Бордусов, 2003. - 41 с. - Текст : непосредственный. Шипатов Э.Т. Ионно-лучевая модификация свойств металлов, сверхпроводников и пленок ферритов-гранатов : учебное пособие / Э. Т. Шипатов, 2007. - 111 с. - Текст : непосредственный. Ito H. Microlithography в· molecular imprinting / H. Ito, 2005 r=on-line. - Текст : электронный. Авдиенко А.А. Физико-технические принципы построения, разработка и применение высокоэнергетичных ионных имплантеров : специальность 05.27.06 "Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники" : автореферат диссертации на соискание ученой степени д-ра техн. наук / А. А. Авдиенко, 2004. - 30 c. - Текст : непосредственный. Григорьев Д.В. Радиационное дефектообразование при ионной имплантации в варизонных полупроводниковых структ урах Cd Hg Te, выращенных мет одом молекулярно-лучевой эпитаксии / Д. В. Григорьев, 2005. - 24 с. - Текст : непосредственный. Гниденко А.А. Исследование влияния давления на поведение гелия и водорода в кристаллическом кремнии / А. А. Гниденко, 2005. - 22 с. - Текст : непосредственный. Ion beam processing of advanced electronic materials : сборник научных трудов / Ed. N. W. Cheung, 1989. - XI, 401 p. 401 p. - Текст : непосредственный. Хмельницкий Р.А. Радиационное повреждение и графитизация алмаза при ионной имплантации / Р. А. Хмельницкий, 2008. - 19 с. - Текст : непосредственный. Дунаев А.В. Кинетика и механизмы взаимодействия неравновесной низкотемпературной плазмы хлора и хлороводорода с алюминием и арсенидом галлия / А. В. Дунаев, 2011. - 16 с. - Текст : непосредственный. Показать все результаты Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Лицевая сторона карточки Обратная сторона карточки
Коробко Ю.О. Формирование субмикронных КМОП структур с повышенной точностью критических размеров методом проекционной фотолитографии : автореф. дис. .. канд. техн. наук: 05.27.01 / Ю.О. Коробко, 2005. - 22 с. - Текст : непосредственный. Калитеевская Н.А. Взаимодействие вакуумного ультрафиолетового излучения эксимерных лазеров с тонкими пленками неорганических соединений : Автореферат диссертации на соискание ученой степени канд. физ.-мат. наук :01.04.10 / Н. А. Калитеевская, 2001. - 22 с. - Текст : непосредственный. Mulder E.H. On the throuhput optimization of electron beam lithography systems : Diss. / E.H.Mulder, 1991. - Pag.var. - Текст : непосредственный. Ююкин Н.В. Моделирование и алгоритмизация управления роботизированными модульно-кластерными комплексами в технологических процессах фотолитографии : автореф. дис. .. канд. техн. наук: 05.13.06 / Н. В. Ююкин, 2006. - 16 с. - Текст : непосредственный. Марголин В.И. Прецизионная литография в твердотельной электронике и микроэлектронике : Автореферат диссертации на соискание ученой степени д-ра техн. наук: 05.27.01 / В. И. Марголин, 1998. - 29 с. - Текст : непосредственный. Никулина Е.А. Измерение топографии двулучепреломления в кристаллах флюорита и исследование его влияния на качество изображения проекционных фотолитографических систем : автореф. дис. .. канд. техн. наук: 05.11.07 / Е. А. Никулина, 2016. - 18 с. - Текст : непосредственный. Назина Л.И. Модели синтеза устройства ориентации полупроводниковых пластин в условиях воздействия встречных газовых потоков : Автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.техн.наук: 05.13.16; 05.13.01 / Л. И. Назина, 2000. - 24 с. - Текст : непосредственный. Семин Ю.Ф. Исследование рентгенолитографических процессов и разработка оборудования для получения структур субмикронных размеров : Автореферат диссертации на соискание ученой степени канд. техн. наук:05.27.07 / Ю. Ф. Семин, 1998. - 16 с. - Текст : непосредственный. Филатова М.С. Синтез оптимальных шаблонов для рентгенолитографии в пучках синхротронного излучения : Автореферат диссертации на соискание ученой степени канд.физ.-мат.наук:05.27.01 / М. С. Филатова, 1996. - 23 с. - Текст : непосредственный. Домненко В.М. Математическое моделирование формирования фотолитографического изображения : Автореферат диссертации на соискание ученой степени канд. техн.наук:05.11.07 / В. М. Домненко, 1999. - 18 с. - Текст : непосредственный. Суханов Я.Н. Экспериментальное исследование параметров низкотемпературной плазмы в плазмохимических реакторах для микро- и наноэлектроники : автореф. дис. .. канд. физ.-мат. наук: 01.04.08, 01.04.04 / Я. Н. Суханов, 2005. - 19 с. - Текст : непосредственный. Показать все результаты Заказать
Заказ фрагмента документа ₽
Приложение
для Android
