• ВХОД
  •  

    Полное описание

    International vacuum microelectronics conference (11 ; 1999 ; New York). Papers from the 11th International vacuum microelectronics conference. Papers from the fourth International plasma-based ion implantation workshop / International vacuum microelectronics conference (11 ; 1999 ; New York) . - New York : [s. n.], 1999. - A18,259-904,A25 p. p. : ill. - (Journal of vacuum science & technology B ; 1999,Vol.17,N 2). - Текст : непосредственный.
    Библиогр. в конце статей. Указ.: с.900-903

    ГРНТИ УДК
    47.29621.385-181.4(063)

    Рубрики:
    Вакуумная микроэлектроника -- Съезды и конференции

    Кл.слова (ненормированные): ВАКУУМНАЯ МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): W8873/1999,Vol.17,N 2)

    Шифр в сводном ЭК: bf510a32ff3e43156be90386956aba41



    Заказ фрагмента документа ₽