• ВХОД

    •  

    Полное описание

    Моделирование формирования глубоких структур в плазменных процессах микро-нанотехнологии : выставочные материалы / И. И. Амиров, В. Ф. Лукичев, А. А. Мельников, А. С. Шумилов. - М. : Моск. гос. техн. ун-т радиотехники, электроники и автоматики, 2013. - 35 с. : ил. - Библиогр.: с. 32-34 (19 назв.). - 100 экз. - ISBN 978-5-7339-0974-5. - Текст : непосредственный.

    ГРНТИ УДК
    47.13.30621.3.049.76-047.84-047.58
    47.13.07621.384-022.532-047.84

    Рубрики:
    Микроэлектронные приборы -- Производство -- Моделирование
    Наноэлектронные устройства -- Производство -- Моделирование

    Аннотация: Приведены модели основных технологических процессов травления высокоаспектных структур, используемых в технологии микро- и наноэлектроники и микросистемной техники. Подробно рассмотрено моделирование формирования наноструктур методом ячеек. Даны примеры моделирования изотропного травления кремния во фторсодержащей плазме и анизотропного ионно-стимулированного травления материалов и формирования высокоаспектных канавок в кремнии в Bosch-процессе. Кратко описано программное обеспечение метода моделирования.
    Доп. точки доступа:
    Амиров, И.И.
    Лукичев, В.Ф.
    Мельников, А.А.
    Шумилов, А.С.

    Держатели документа:
    Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): Д10-13/3860)

    Шифр в сводном ЭК: 6d49cebf534cd387b7b53356a82c2775



    Заказ фрагмента документа ₽