Полное описание
Журнал
Plasma Chemistry and Plasma Processing. - [S. l. : s. n.]. - Выходит ежеквартально. - ISSN 0272-4324. - Текст : непосредственный.
ГРНТИ
29.27
31.15
Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): V3905)Записей номеров не найдено