Полное описание

Eberle, J. Optimierung der Strahlungscharakteristik eines Pinchplasmas fur die Rontgenlithographie : Diss. / J.Eberle. - Aachen, 1990. - 117 S. : Ill. - Текст : непосредственный.
Библиогр.:с.115-117
Перевод заглавия: Оптимизация характеристики излучения пинч-плазмы для рентгеновской литографии:Дис

ГРНТИ	УДК
47.13.11	621.3.049.77-047.84:776(043)

Рубрики:
Рентгенолитография -- Оптимизация

Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): G2/16430)

Шифр в сводном ЭК: e9d43bd481c17f34e2aae564ceee6886

Заказать издание
Заказ фрагмента документа