Полное описание
Журнал
Chemical Vapor Deposition. CVD. - Weinheim : Wiley-VCH Verl., 1995 (Ulrich) - . - Выходит ежемесячно. - ISSN 0948-1907. - Текст : электронный.
ГРНТИ + 31.15 + 55.22
Кл.слова (ненормированные): Нанотехнологии -- Химические технологии -- Нанесение покрытий
Аннотация: Статьи, обзоры и краткие сообщения по проблемам химического осаждения из паровой фазы и сопутствующим технологиям (в т.ч.нанотехнологиям), включая исследования по неорганической химии, химии материалов, металлоорганике, прикладной физике, технологии полупроводников и тонких пленок, обработке керамики и др. Новости, обзоры книг, информация о конференциях.. 20100113
journal link (full text - НТО-3)
Держатели документа:
Государственная публичная научно-техническая библиотека России : 123298, г. Москва, ул. 3-я Хорошевская, д. 17 (Шифр в БД-источнике (KATBW): vr=C286858)Записей номеров не найдено