Полное описание

W8873/Vol.14,N 1,1996
International workshop on the measurement and characterization of ultra-shallow doping profiles in semiconductors (3 ; 1995 ; S.l.). Papers from the third International workshop on the measurement and characterization of ultra-shallow doping profiles in semiconductors and papers from the third International workshop on advanced plasma tools... / International workshop on the measurement and characterization of ultra-shallow doping profiles in semiconductors (3 ; 1995 ; S.l.) ; Ed. G. E. McGuire. - New York, NY : Amer.vacuum soc., 1996. - A24,583 p. p. - (Journal of vacuum science & technology B., ISSN 0734-211X ; vol.14,N 1,1996). - Б. ц. - Текст : непосредственный.
Библиогр.в конце статей

ГРНТИ	УДК
47.09.29	621.315.592.002:669(063)

Рубрики:
Полупроводники -- Легирование -- Съезды и конференции

Кл.слова (ненормированные): полупроводник
Доп. точки доступа:
McGuire, G.E.\ed.\

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
Свободны: ХР (1)

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽