Полное описание

R/8035/IPP 5/35
A statistical approach to plasma profile analysis / O.J.W.F.Kardaun,K.S.Riedel,P.J.McCarthy,K.Lackner. - Garching bei M@:unchen : [s. n.], 1990. - 40 p. : ill. - (Berichte / Inst.fur Plasmaphysik ; IPP 5/35). - 5.00 р. - Текст : непосредственный.
Библиогр.:c.38-40

ГРНТИ	УДК
29.27.49	621.039.66

Рубрики:
Плазма -- Методы исследования

Кл.слова (ненормированные): плазма
Доп. точки доступа:
Kardaun, O.J.W.F.
Riedel, K.S.
McCarthy, P.J.
Lackner, K.

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ХР (1)
Свободны: ХР (1)

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽