Полное описание

R/7309/1185
Dry processing for submicrometer lithography : proc,of the meet., 12-13 Oct.1989, Santa Clara(Ca) / Alliot P. ; ed. J. Bondur, ed. A. R. Reinberg. - Washington(DC) : [s. n.], 1989. - VII, 307 p. 307 p. : ill. - (Proceedings / Soc.of photo-optical instrumentation engineers ; n1185). - ISBN 0-8194-0221-4 : 33.21 р. - Текст : непосредственный.
Библиогр.в конце ст.

ГРНТИ	УДК
47.13.11	621.3.049.77-047.84:776(062)

Рубрики:
Электронолитография -- Съезды и конференции

Кл.слова (ненормированные): электронолитография -- оптоэлектроника
Доп. точки доступа:
Alliot P.
Bondur, J.\ed.\
Reinberg, A.R.\ed.\

Имеются экземпляры в отделах: всего 3 : ХР (1), (2)
Свободны: ХР (1), (2)
Копия:

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽