Полное описание
>
Fujii, K. Development of oxidation resistant SiC/C compositionally gradient materials / K.Fujii,J.Nakano,M.Shindo. - Tokyo : [s. n.], 1994. - 15 p. : ill. - (Reports JAERI / Japan atomic energy research inst. ; m 94-001). - 100 р. - Текст : непосредственный.
Рез.яп.Библиогр.:с.8
ГРНТИ | УДК | |
61.31.51 | 661.666.094.3 |
Рубрики:
Углеродистые материалы и изделия
Кл.слова (ненормированные): углеродистый материал
Доп. точки доступа:
Nakano, J.
Shindo, M.
>
Имеются экземпляры в отделах: всего 3 : ХР (1), (2)
Свободны: ХР (1), (2)
Копия:
Заказ фрагмента документа ₽