Полное описание

R/1872/901
Hata, N. Gas phase process diagnostic techniques on plasma chemical vapor deposition / N.Hata. - Tsukuba : [s. n.], 1989. - 86 p. : ill. - (Researches / Electrotechn.lab., ISSN 0366-9106 ; n901). - 1.00 р. - Текст : непосредственный.
Текст яп. Рез.англ. Библиогр.:с.83-86

ГРНТИ	УДК
29.19.16	539.23

Рубрики:
Пленки -- Производство

Кл.слова (ненормированные): пленка
Имеются экземпляры в отделах: всего 2 : ХР (2)
Свободны: ХР (2)

Заказать издание
Заказ фрагмента документа ₽